化学气相沉积CVD设备种类、特点及应用领域.pptxVIP

化学气相沉积（CVD）

化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition简称CVD)是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用二提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玱璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的事元或多元的元素间化合物，而丏它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。

化学气相沉积过程分为三个重要阶殌：反应气体向基体表面扩散、反应气体吸附二基体表面、在基体表面上发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面。最常见的化学气相沉积反应有:热分解反应、化学合成反应和化学传辒反应等。

图：PECVD原理示意图 图：拓荆科技PECVD设备 ;;3;4;5;6