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DB41/T2686—2024

切花芍药设施栽培技术规程

1范围

本文件规定了切花芍药设施栽培的设施选择与处理、上盆、低温处理、温室管理、切花采收等技术

要求。

本标准适用于切花芍药设施栽培。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T8321（所有部分）农药合理使用准则

NY/T496肥料合理使用准则通则

NY/T2970连栋温室建设标准

NY/T3024日光温室建设标准

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

促成栽培

利用各种栽培措施，使植物开花期比自然花期提早的栽培方式。

3.2

切花芍药

用于从活植株体上剪切包括花（花蕾）、花梗和部分叶片的花枝的芍药植株。

3.3

转色期

外层数枚花瓣松动、露出正常花瓣的时期。

3.4

暄蕾期

外层花瓣开始伸展、花蕾上部明显发暄的时期。

.4设施选择与处理

4.1类型

宜采用具备升降温、通风、遮阳、补光等条件的连栋温室或日光温室。连栋温室建设标准按NY/T2970

的规定执行。日光温室建设标准符合NY/T3024的要求。

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4.2消毒处理

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栽植前一周，温室采用45%百菌清烟剂0.2g·m熏蒸消毒，密闭24h后通风。

5上盆

5.1品种选择

宜选择生长势强，成花率高，花色纯正、鲜艳，花型规整，花枝挺直且长度≥50cm，瓶插寿命7d

以上，耐低温贮藏的品种。常用切花芍药设施栽培品种有莎拉、蒙斯•茱莉尔、奶油碗等。

5.2种苗选择及处理

5.2.1种苗选择

选择根系健壮、无病虫害、每株具有6～8个饱满地下芽的三年生芍药分株苗。

5.2.2种苗处理

剪除病根及过长根系，采用70%甲基托布津可湿性粉剂或75%百菌清可湿性粉剂600倍液浸泡消毒

10min。

5.3容器与基质

5.3.1容器

宜选用直径28cm、高度32cm的塑料容器进行栽植。

5.3.2基质及处理

采用泥炭：珍珠岩体积比为3∶1的混合基质，每立方米基质添加腐熟有机肥200g和氮磷钾（N∶PO∶

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K0）为14∶14∶14的缓释肥10g作为基肥，混合均匀。

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每立方米基质采用50%多菌灵可湿性粉剂25g稀释成800倍液，均匀拌湿，塑料薄膜覆盖封闭24h，

摊开晾晒至无气味。

5.4栽植

9～10月上旬上盆，栽植深度以芽在基质表面下2cm～3cm为宜。然后放置于自然条件下不少于15d，

促进新根生长