2024-2028年全球PCB曝光设备行业市场研究报告.pdfVIP

全球PCB曝光设备行业

市场研究报告

2024-2028年

2024年8月

Uresearch

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一、PCB曝光设备行业基本情况

目二、全球PCB曝光设备行业发展概况及市场规模

录三、我国PCB曝光设备行业发展概况及市场规模

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光刻与曝光的基本概念

光刻技术（Photo-lithography）是人类迄今所能达到的尺寸光刻技术主要包括预处理、涂胶、曝光、显影、蚀刻和去胶

最小、精度最高的加工技术，是利用光学-化学反应原理和化等一系列环节，整个工艺流程是一个复杂的过程，各工艺环

学、物理刻蚀方法，将设计好的微图形结构（如电路线路图）节互相影响、互相制约。

转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上

曝光工序是光刻技术中最重要的工艺环节，决定了微图形结

的微纳制造技术。

构及其产品的质量。

图形曝光工艺光刻的主要工艺流程

预

涂曝显蚀去

处