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Q/S
上海天马微电子有限公司企业标准
Q/S0001-2007
TFT工艺流程、材料、设备、生产常用中英文标准名称
版号:1.0总页数:23
制定部门:制造部生效日期:2007年4月28日
拟制:方永学2007-4-3
审核:向传义2007-4-3
标准化:吴乃亮2007-4-25
会签:颜建军朱希玲2007-4-20
蔡明宏2007-4-24凌志华2007-4-3
批准:安德浩2007-4-24
2007-04发布2007-04实施
上海天马微电子有限公司发布
上海天马微电子有限公司企业标准
TFT工艺流程、材料、设备、生产常用中英文标准名称
TIANMA
Q/S0001-2007第2页共23页
更改状态更改内容更改人更改日期
一.TFT工艺流程中英文标准名称
ArrayProcessFlow阵列段工艺流程
Unpacking拆包装
Input
Initialclean预备清洗
投料
Particlecount尘埃粒子测试
Cleanbeforedepo成膜前清洗
Gate(Mo/Alalloy)Filmdepo栅电极成膜
RSmeter电阻测量
MacroInspection宏观检查
CleanbeforePR涂胶前清洗
Prebake预烘
PRCoating光刻胶涂布
PRvacuumdry(VCD)光刻胶低压干燥
PRsoftbake前烘
Expose曝光
TitlerExpose/EdgeExpose打标/边缘曝光
GateDevelop显影
栅电极层PRhardbake
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