GIS设备SF6漏气处理.pdf

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GIS设备SF6漏气处理:

前言

全封闭组合电器采用SF6气体作为绝缘和灭弧介质,各电器元件都

是标准的独立结构。组合元件包括:断路器、隔离开关、接地开关、

电流互感器、电压互感器、快速接地开关、避雷器、母线、出线套管、

电缆头等组成。SF6气体是世界上目前最优良的绝缘介质和灭弧介质。

所以具有占地少、性能可靠、检修周期长等优点,己被国内外广泛采

用。由于绝缘和灭弧介质是用SF6气体,而SF6气体容易受水分影响,

微水升高后SF6气体绝缘灭弧性能迅速下降,对设备的安全运行影响

较大,而我局大量采用了GIS设备,总用气量较大。因此对SF6水份及

密封的管理非常重要。气体管理得好,设备运行可靠性就高。根据我

局设备运行状况及自己多年的工作实践经验,谈谈SF6气体漏气产生

的原因、危害性、水分产生的原因、漏气点查找、处理的方法。

一SF6气体漏气的产生的原因:

1制造厂制造的设备精度不够,外壳上有砂眼,密封材料质量欠佳

造成的漏气。

2设备在现场安装质量不高,或大修大拆后密封面处理不到位造成

漏气。

3由于设备在运行中产生的振动,如开关分合,变压器运行中振动,

密封材料老化等原因产生的漏气。

二SF6气体漏气的危害性:

1.SF6气体漏气造成设备内的气体压力下降,为了保证设备的正常

运行,需定期进行补充SF6气体工作,在增加了工作量同时将水份带

入设备内,造成设备内微水值上升。微水严重超标将危害绝缘,影响

灭弧,并产生有毒物质。当水份较高时,很容易在绝缘材料表面结露,

造成绝缘下降,严重时发生闪络击穿。含水量较高的气体在电弧作用

下被分解,SF6气体与水分产生多种水解反应,产生WO3(三氧化钨)、

CuF2(氟化铜)、WOF4(四氟化钨)等粉末状绝缘物,其中CuF2有强

裂的吸湿性,附在绝缘表面,使沿面闪络电压下降,HF、H2SO3等具

有强裂腐蚀性,对固体有机材料和金属有腐蚀作用,缩短了设备寿命。

含水量较高的气体,在电弧作用下产生很多化合物,影响SF6气体的

纯度,减少SF6气体介质复原数量,还有一些物质阻碍分解物还原,

灭弧能力将会受影响。含水量较高的气体在电弧作用下分解成化合物

WO2(二氧化钨)、SOF4(、SO2F2(、SOF2(、SO2

四氟化硫酰)氟化硫酰)氟化亚硫酰)

(二氧化硫)等,这些化合物均为有毒有害物质,而SOF2、SO2的含量会

随水分增加而增加,直接威胁人身健康,因此对SF6气体的含水量必

须严格监督和控制。

2.由于漏气需补充SF6气体,SF6气体比较昂贵造成大量维护费

用上升。气体泄漏还影响周围的环境质量。

三SF6气体中水分的由来:

a、SF6气体本身的水分(用经微水试验合格的气体标准为不大于6

4PPm(v))。

b、产品零部件(尤其是绝缘件)中吸咐的水分(装配、清理、回

装时要尽量的抽出水分,如烘用塑料纸包扎好用酒精,丙酮擦洗)。

c、产品安装时从大气中带入的水分(同上)。

d、充气时,充放气通过回收装置,管道及其它进入水分,(按规定进

行抽真空,定期更换回收装置内的吸附剂充放气工作应在湿度小于8

0%进行)。

e、设备运行中产生由于密封不良,通过密封圈向设备内渗入水分。

运行中虽然内部气压高于大气压,就水分说,外部的水分压比内部要

大得多.若外界气温更高,湿度更大,则内外水分压更大,水分更容易

进入内部。由上可以得出设备漏气是水分增大的主要原因。因此在检

修中应严格检查密封圈质量、严格按工艺要求涂密封胶、放置密封圈、

严格按力矩要求紧固螺栓。

四SF6气体漏气点的查找方法:

1运行中设备判断:

(1)在日常的设备巡回中,发现某一气隔或气室的气体

压力在同一环境温度下与原来的记录相比较压力值下降,可以判定有

泄漏气现象。

(2)某一气隔或气室最近发生补充气体工作,如半年或

三个月需补充一次。因为SF6气体设备年漏气量不充许大于l%。

(3)在做微水值测定分析中,若发现微水值超标也可判

断此气隔或气室有泄漏现象。标准

产生电弧的气室:交接

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