- 1、本文档共14页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
半导体一些术语的中英文对照--第1页
...
半导体一些术语的中英文对照
离子注入机ionimplanter
LSS理论LindhandScharffandSchiotttheory
又称“林汉德-斯卡夫-斯高特理论”。
沟道效应channelingeffect
射程分布rangedistribution
深度分布depthdistribution
投影射程projectedrange
阻止距离stoppingdistance
阻止本领stoppingpower
标准阻止截面standardstoppingcrosssection
退火annealing
激活能activationenergy
等温退火isothermalannealing
激光退火laserannealing
应力感生缺陷stress-induceddefect
择优取向preferredorientation
制版工艺mask-makingtechnology
图形畸变patterndistortion
初缩firstminification
精缩finalminification
母版mastermask
铬版chromiumplate
干版dryplate
乳胶版emulsionplate
透明版see-throughplate
高分辨率版highresolutionplate,HRP
超微粒干版plateforultra-microminiaturization
掩模mask
掩模对准maskalignment
对准精度alignmentprecision
光刻胶photoresist
又称“光致抗蚀剂”。
负性光刻胶negativephotoresist
正性光刻胶positivephotoresist
无机光刻胶inorganicresist
多层光刻胶multilevelresist
电子束光刻胶electronbeamresist
X射线光刻胶X-rayresist
刷洗scrubbing
甩胶spinning
涂胶photoresistcoating
后烘postbaking
光刻photolithography
X射线光刻X-raylithography
电子束光刻electronbeamlithography
...
半导体一些术语的中英文对照--第1页
半导体一些术语的中英文对照--第2页
...
离子束光刻ionbeamlithography
深紫外光刻deep-UVlithography
光刻机maskaligner
投影光刻机projectionmaskaligner
曝光exposure
接触式曝光法contactexposuremethod
接近式曝光法proximityexposuremethod
光学投影曝光法opticalprojectionexposuremethod
电子束曝光系统electronbeamexposuresystem
分步重复系统step-and-repeatsystem
显影development
线宽linewidth
去胶strippingofphotoresist
氧化去胶removingofphotoresistbyoxidation
等离子[体]去胶removingofphotoresistbyplasma
刻蚀etching
干法刻蚀dryetching
反应离子刻蚀reactiveionetching,RIE
各向同性刻蚀isotropicet
文档评论(0)