光刻胶项目智能制造方案（参考）.docx

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光刻胶项目

智能制造方案

说明

光刻胶行业是半导体制造过程中不可或缺的关键材料之一，主要用于光刻工艺中转移电路图案。随着集成电路技术的不断发展，特别是在芯片制程技术向更小节点（如5纳米、3纳米甚至更小节点）进展的过程中，光刻胶的需求也呈现出快速增长的趋势。目前，全球光刻胶市场主要由几家国际大厂主导，如日本的JSR、东京应化工业（TOK）、德国的BASF等，它们在高端光刻胶研发和生产方面占据主导地位。然而，随着中国半导体产业的崛起，国产光刻胶的研发和市场布局也在加速，逐步缩小与国际领先技术的差距。现阶段，光刻胶行业面临的主要挑战包括高端光刻胶技术的突破、原材料的供应链稳定性