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有机功能材料包括:有机光功能材料电功能高分子化学功能高分子高分子液晶形状记忆高分
子磁性功能高分子医药功能高分子
(一)有机光功能材料
1.(填空)有机光功能材料:有机非线性光学晶体感光性高分子树脂光致变色高分子塑料光
导纤维
2.(填空)有机非线性光学晶体
•非线性光学材料在光电技术的频率变换中可产生倍频、和频、差频、四混频和光参量振荡,从而
可拓宽激光的波长范围,发展新的激光光源。
•非线性光学材料在信号处理中做光调制、光开关、光偏转、图像放大、光计算机、光存储、光纤
通信等。
3.20世纪60年代中期发现某些芳香族有机化合物显示非线性光学效,1979年,发现2-甲基-4-硝基苯
胺有很大的二阶非线性光学效应,其二阶非线性光学系数比LiNbO3高2000倍,由此,有机非线性光学材
料开始迅速发展。
4.(1)有机光功能材料结构特点:
•有机非线性光学晶体多为分子晶体。对称性较低,内部结合力较弱。
(2)生长方法
•溶液法
•熔体提拉法
•气相生长法
5.查尔酮衍生物是研究较多的有机非线性光学晶体体系,通过可以设计的施主或受主基团,便于对晶
体的性质进行设计和优化。
(二)感光性高分子树脂
1.(判断)感光性树脂在光的作用下能迅速发生光化学反应,引起物理和化学变化的高分子。这类树脂在
吸收光能量后是分子内或分子间产生化学或结构的变化。吸收光的过程可由具有感光基团的高分子本身来
完成,也可由加入感光材料中的感光性化合物(光敏剂)吸收光后引发光化学反应来完成。
2.(简答)光致抗蚀剂的工作原理
•光致抗蚀剂又叫光刻胶。当其受到光照后即发生交联或分解反应,溶解性发生改变。
•硅晶体或金属等表面进行选择性的腐蚀的步骤为:
a.将不需腐蚀的部分保护起来;
b.将光刻胶均匀涂布在被加工物体表面;
C.所需加工的图形进行曝光
d.用适当的溶剂显影,就得到有光刻胶组成的图形;
e.用适当的腐蚀液除去被加工表面的暴露部分;
f.除去光刻胶,就形成了所需要的图形。
3.如果光刻胶受光部分发生交联反应,溶解度变小,用溶剂把未曝光的部分显影后去除,则在被加工
表面形成与曝光掩膜(照相负片或其复制品)相反的负图像,称为负性光致抗蚀剂;
•相反,如果光刻胶受光部分发生分解,溶解度增大,用溶剂除去曝光部分,所形成的图像与掩膜
是一致的,称为正性光致抗蚀剂。
4.光致抗蚀剂要求:感度高,所必要的曝光量值小;能加工的最小尺寸小,即分辨率要高;耐腐蚀,对基
板有保护作用。
5.主要感光性高分子(按聚合物组分分类)(1)具有感光基团的高分子(2)感光化合物+高分子(3)光
聚合型感光高分子
(三)电功能高分子
1.电功能高分子包括:导电高分子材料光导电高分子材料高分子压电材料和热电材料高分子超导体
2.导电高分子材料:是导电率在半导体和导体范围内的高分子材料,导电高分子材料与金属相比,
具有重量轻、易成形、电阻率可调节等优点。
3.按导电原理导电高分子材料可分为:
A.结构型导电高分子是指分子结构本身能提供载流子从而显示“固有”导电性的高分子材料;
B.复合型导电高分子是以绝缘聚合物作基体,与导电物质(如炭黑、金属粉等)通过各种复合方法
而制得的材料,它的导电性是靠混合在其中的导电性物质提供的。
4.结构型导电高分子:一般有四类聚合物具有导电性:
•共轭高聚物
•高分子电荷转移络合物
•金属有机聚合物
•高分子电解质
其中前三类均以电子传导为主,高分子电解质是以离子传导为主
5.光导电高分子材料
•光电导是指光激发时电子载流子数比热平衡状态时多的现象。把这种由于光激发而产生的电流称
为光电流。把在光照射下导电性增加的高分子绝缘体或半导体称为光电导高分子。将光电流对暗
电流比值很大的材料称为光电导材料。
•光电导包括三个基本
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