《身管内膛磁控溅射Ta-W涂层的制备及性能研究》.docxVIP

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《身管内膛磁控溅射Ta-W涂层的制备及性能研究》

一、引言

随着现代军事科技的发展，武器装备的性能要求越来越高，特别是对身管内膛的耐腐蚀性、耐磨性及热稳定性等方面提出了更为严格的要求。针对这一需求，本文研究了身管内膛磁控溅射Ta-W涂层的制备工艺及其性能。通过磁控溅射技术制备Ta-W涂层，旨在提高身管内膛的表面性能，以满足现代武器装备的需求。

二、制备方法

1.实验材料

本实验采用Ta（钽）和W（钨）作为靶材，其纯度均达到99.9%。此外，还需准备基体材料（身管内膛材料）及其他辅助设备。

2.制备工艺

采用磁控溅射技术，将Ta和W靶材进行溅射，制备出Ta-W合金涂层。具体步骤包括：基体预处

该用户很懒，什么也没介绍

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