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百川东到海，何时复西归?少壮不努力，老大徒伤悲。——汉乐府

八外層

8.1製程目的

經鑽孔及通孔電鍍後,內外層已連通,本製程在製作外層線路,以達電性的完整.

8.2製作流程

銅面處理→壓膜→曝光→顯像

8.2.1銅面處理

詳細資料請參考4.內層製作.

8.2.2壓膜

8.2.2.1乾膜介紹

乾膜(dryfilm)的構造見圖8.1,

1968年由杜邦公司開發出來這種感光性聚合物的乾膜後，PCB的製作就進

入另一紀元,到1984年末杜邦的專利到期後日本的HITACHI也有自己的品牌問世。爾後就陸續有其他廠牌加入此一戰場.

依乾膜發展的歷史可分下列三種Type:

－溶劑顯像型－半水溶液顯像型－鹼水溶液顯像型

現在幾乎是後者的天下,所以本章僅探討此類乾膜.

A.乾膜之組成

水溶性乾膜主要是由於其組成中含有機酸根，會與強鹼反應使成為有機酸的鹽類，可被水溶掉。其組成見圖8.1水溶性乾膜最早

由Dynachem推出,以碳酸鈉顯像，用稀氫氧化鈉剝膜，當然經不斷改進才有今日成熟而完整的產品線.

B.製程步驟

乾膜作業的環境，需要在黃色照明,通風良好,溫濕度控制的無塵室中操作，以減少污染增進阻劑之品質。其主要的步驟如下：

壓膜─停置─曝光─停置─顯像

8.2.2.2壓膜(Lamination)作業

A.壓膜機壓膜機可分手動及自動兩種,有收集聚烯類隔層的捲輪，乾膜主輪，加熱輪，抽風設備等四主要部份,進行連續作業,其示

意見圖8.2

一般壓膜條件為：

壓膜熱輪溫度:120°±10℃板面溫度:50±10℃壓膜速度:1.5~2.5米／分壓力:15-40psi

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a.傳統手動壓膜機須兩人作業，一人在機前送板，一人在機後收板並切斷乾膜，此方式用在樣品、小量多料號適合，對人力、物料

的耗用浪費頗多。

b.自動壓膜機市面上HAKUTO，CEDAL，SCHMID等多種廠牌，其機構動作在板前緣黏壓乾膜方式及壓膜後緣切膜動作多有不同，

但都朝產速加快，節省乾膜以及黏貼能力上在改進。

c.國內志勝幾年前開發自動壓膜機頗為成功國內多家大廠均有使用.

d.乾膜在上述之溫度下達到其玻璃態轉化點而具有流動性及填充性，而能覆蓋銅面。但溫度不可太高，否則會引起乾膜的聚合而

造成顯像的困難。壓膜前板子若能預熱,可增強其附著力。

e.為達細線路高密度板之高品質，必須從環境及設備上著手，乾膜之壓膜需要在無塵室中進行（10K級以上），環境溫度應控制

在23°±3℃，相對濕度應保持50％RH±5％左右。操作人員也要帶手套及抗靜電之無塵衣帽。

8.2.3曝光Exposure

8.2.3.1曝光機種類

－手動與自動－平行光與非平行光－LDI雷射直接暴光

A.手動曝光機，是將將欲曝板子上下底片以手動定PIN對位後，送入機台面，吸真空後曝光。

B.自動曝機一般含Loading/unloading，須於板子外框先做好工具孔，做初步定位再由機台上之CCD，Check底片與孔的對位狀

況，並做微調後入曝光區曝光。依目前的精密須求程度，不以視覺機器自動對位，恐怕做不到好品質的板子。

C.如何量測及評估曝光機的平行度:

－定義:從平行度(collimate)字面的意思就是使直向行進，而從光的眼光而言則是讓光行進同時垂直於照射面。圖8.3是平行光與

非平行光之比較.

－平行度的影響:而研判平行直進的方法有兩個值可供參考，平行羊角(CollimateHalfAngle)及偏斜(DeclinationAngle)。此二值

可大略判斷曝光機的平行度及曝光可能造成的側向偏移，也因此若使用非平行曝光機曝光其影像會有偏料及底部側向顯像的問題。

－量測方法及工具:

一般量測平行度的方法是用一種叫平行度像機(CollimationCamera)其量測方式是以此工具置於感光紙或感光物上曝光，之後再量

偏移度，其示意圖如下（圖8.4(a,b)）:

D.非平行光與平行光的差異，平行光可降低Under-Cut。其差異點，可見圖8.