基于电子束光刻t型栅工艺设计.docx

下载文档

0
0
约2.7万字
约 48页
2024-12-22 发布于河北
举报
版权申诉
保障服务

基于电子束光刻t型栅工艺设计.docx

1、本文档共48页，其中可免费阅读15页，需付费200金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

PAGE2

安徽科技学院教务处制

基于电子束光刻T型栅工艺设计

摘要：随着氮化镓射频器件工作条件的的范围越来越高，当前器件尺寸与原始尺寸相比变得越来越小，器件制造的核心工艺难点之一便是光刻工艺技术。当线条尺寸减小到0.5um以下时，当前器件制作黄光工艺中的步进式光刻机已经不能满足高分辨率的工艺要求。本文讲解了非常有发展前景的纳米光刻技术，即电子束光刻技术。首先电子束光刻机的分辨率可以做到非常高，此技术的出现可以更大程度的改善纳米线宽的制造工艺。在制作集成电路过程中，整个制造工艺最重要的技术之一便是电子束光刻。电子束光刻是推动器件尺寸缩减的过程当中非常重要的一步，决定了线宽的大