一种去胶剥离机剥离腔.pdfVIP

本实用新型公开了一种去胶剥离机剥离腔，其技术方案要点是：包括壳

体，壳体的内侧中心位置设置有对晶圆进行放置的托盘，且托盘的上表面设

置有多个呈圆周状均匀排列的夹紧机构，夹紧机构对晶圆进行限位装夹，且

夹紧机构可进行径向的移动调节，壳体的一角设置有可在水平面上进行一定

角度摆动的喷液机构，喷液机构的喷液端与托盘对齐，且喷液机构靠近喷液

端固定安装有水平的遮挡盘，喷液机构进行喷液去胶剥离时，通过设置的遮

挡盘对雾状液体进行阻拦防止其四处飞散，同时通过遮挡盘上的吸风孔对雾

状液体进行吸附，从而进一步的对其进行处理，更好的避免雾状液体四尺飞

散，具有较好的处理效果。

摘要附图

234

1

9ngp

5

6

7

1

权利要求书

内侧中心位置设置有对晶圆进行放置的托盘(2),且托盘(2)的上表面设

置有多个呈圆周状均匀排列的夹紧机构(7),所述夹紧机构(7)对晶圆进

行限位装夹，且夹紧机构(7)可进行径向的移动调节，所述壳体(1)的一

角设置有可在水平面上进行一定角度摆动的喷液机构(4),所述喷液机构(4)

的喷液端与托盘(2)对齐，且喷液机构(4)靠近喷液端固定安装有水平的

遮挡盘(3),所述遮挡盘(3)的外侧圆周面设置对雾状液体进行吸走处理

的吸风孔(35)。

2.根据权利要求1所述的一种去胶剥离机剥离腔，其特征在于：所述遮挡盘

球形的过滤罩(33)。

3.根据权利要求2所述的一种去胶剥离机剥离腔，其特征在于：所述喷液机构

且齿轮(44)与电机输出轴上的主动齿轮啮合。

4.根据权利要求3所述的一种去胶剥离机剥离腔，其特征在于：所述壳体(1)

的一角的外侧固定设置有支撑板(5),所述电机固定在支撑板(5)上，所

接管(6)连接有液泵，且液泵的抽液端连接有储液箱。

5.根据权利要求1所述的一种去胶剥离机剥离腔，其特征在于：所述夹紧机

1

权利要求书

(77)的外侧套装有弹簧(75)。

6.根据权利要求1所述的一种去胶剥离机剥离腔，其特征在于：所述壳体(1)

2

说明书

一种去胶剥离机剥离腔

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，具体涉及一种去胶剥离机剥离腔。

背景技术

在对晶圆进行蚀刻加工时，会在晶圆上生成一层光刻胶，然后进行刻蚀

形成线条槽，在蚀刻完成后需要对晶圆表面的光刻胶进行去胶剥离处理。

包括壳体体和固定于去胶剥离机的壳体体内的清洗腔，清洗腔包括外固定圈、

内固定圈和活动罩壳，外固定圈和内固定圈固定于外腔体的底部，晶圆卡座

处于内固定圈内，活动罩壳升降安装于外腔体上且处于外固定圈和内固定圈

之间，活动罩壳的上端设置有喷淋窗口，当活动罩壳处于下止点时，晶圆卡

座从喷淋窗口露出，反之在上止点时，晶圆卡座处于活动罩壳内部，外腔体

的底部位于内固定圈内部、内固定圈和外固定圈之间、外固定圈外部分别设

置有内排液口、中间排液口和外排液口，该剥离腔能够方便晶圆安装在旋转

的晶圆卡座上，并且有效阻挡剥离液溅射至剥离腔的各个地方，防止对内部

其他的部位腐蚀。

但是在实际使用过程中，上述的去胶剥离机的剥离腔通过设置的罩壳对

淋喷时产生的雾状液体进行阻拦防止其四处飞散，但是其对雾状液体的阻拦

能力有限，不能对雾状液体进行吸附处理，在雾状液体的阻拦方面还存在一

定的不足。

实用新型内容

针对背景技术中提到的问题，本实用新型的目的是提供一种去胶剥离机

剥离腔，用于解决上述