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PECVD设备操作规程

1(开机

1.1打开主氮气阀门(4-6bar)、主压缩空气阀门(5-7bar)、冷却水(2-4bar)、

打开特气并确认。1.2确认六个红色急停按钮在正常位置状态。

1.3打开主控制柜上的电源开关,打开电脑,此时电脑进入WINDOW操作界面。

1.4自动进入软件程序。

1.5作业员登录,输入名字和口令。

1.6再次检查上式1.1项正常后,按F9。

1.7在所有的门和盖子都关闭的情况下,在“system(系统)”状态下按

“pumps(真空泵)”

按钮，先按中间的“evacuate(抽真空)”按钮，再按另外两个“evacuate”此

时真空泵

打开。

1.8按“processchamber(工艺腔)”按钮，点“parameters(参数)”对加热

“2”和加热

“3”进行温度设定，设定“400”度，按“save”保存。

1.9等待加热“2”和加热“3”达到设定的温度。

1.10当加热“2”和加热“3”的温度达到设定的温度时进行工艺运行。按

“control(控制)”

选择要加载的工艺名后(目前使用的预热工艺方案是“processprheating”),

按“load(加

载)”再按“start(开始)”，此时传输系统打开。生产前，每次载板预热2

次，载板预

热结束后，点击停止，停止预热方案。

Test01-25-07lowgasflow),按“load1.11选择生产工艺方案:点击工艺

腔，选择工艺方案(

(加载)”再按“start(开始)”，待显示，工艺正在运行时，在传输台上放上

预热过的

载板。(备注:开始工艺时，Test01-25-07lowgasflow下显示为:“等待温

度达到设定

值”“打开特气”“打开微波源”“工艺正在运行”)

1.12当硅片全部放入石墨框里的时候，同时按下传送台上的黑色按钮，石墨

筐进入腔里进行镀膜。

按下

2(关机

2.1石墨框全部都出来的时候，并最终停止时，关闭工艺。点“control(控

制)”再点“stop(停止)”，最后按“stop(停止)”。

2.2关闭真空泵,移动指针点击“pumps”，再点击中间的“pumpsoff(关闭真

空泵)”按钮后三个泵都停止。

2.3关闭加热器“2”和“3”，点击“processchamber(工艺腔)”，再按

“parameters(参数)”把设定的“400”度改为“0”度后保存。如果明天不生产，

将“cover2(腔盖2)”和“cover3(腔盖3)”打开，指针点“pumps”中间的

“vent”按钮，当上面的指示压力大于“900mbar”时，按“covercontrol(盖板

控制)”按钮，指针点击“cover2”和“cover3”再按“open”，出现一个对话框

后点击“yes”，最后同时按电脑上的两个“coverlift(提起腔盖)”白色按钮，

让盖子达到安全位置方可。

2.4关闭计算机、压缩空气、氮气。

2.5当腔体里的温度小于“50”度时再关闭主电柜上的电源。

3.注意事项

3.1不允许修改机械参数,否则将发生严重的后果。3.2发现颜色不对或报警

时及时通知技术员。3.3腔体里工作16个小时左右清理一次。3.4做完后的片

子不可以摩擦。

3.5一次性手套半小时左右更换一次。3.6卸片时保持电池片的方向一致。