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半导体 技术文件直拉单晶炉设备简介、结构.pdfVIP

半导体 技术文件直拉单晶炉设备简介、结构.pdf

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直拉单晶硅工艺技术

主讲教师:裴迪

石油化工学院

1

第二章直拉单晶炉

第二章直拉单晶炉

直拉单晶炉是用于直拉法单晶生长的设备。

炉子分两部分组成:机械部分和电控系统。

炉体一带水套的不锈钢炉室,其内装有由石

墨加热器和石墨保温套构成的热场。

籽晶轴和坩埚轴分别从炉室顶部和底部插入炉

内,两轴具有转动和升降的机械传动系统。

下轴顶端装有石英坩埚,埚内可装入多晶硅料

以供拉晶用

直拉单晶炉的需求

为了提高生产效率,降低成本,也为了保证器件参数

的一致性、可靠性,都希望拉单晶大径化,设备控制

高度自动化。目前世界上已制造出了装料量达400kg以上

,单晶径达300mm以上,从抽空到拉晶结束全部自动化

控制,且稳定性、可靠性极好的大型拉单晶设备。为了

提高单晶的内在质量或者某方面参数的特殊要求,也出现

了磁场法拉单晶炉和具有两个主炉室的连续加料拉单

晶炉等。

直拉单晶炉的改良

1.为了缩小设备高度、增加稳定

性,目前普遍采用软轴代替原来的硬

轴;

2.为了实现重复加料及重复拉晶

,都采用一下一上两个炉室(主室和

副室);

直拉单晶炉的改良

3.为了确保真空度和转动的稳定性,大

都在上、下轴的旋转部分安装磁流体密封。

4.为了加大了投料量,在电源、水冷及

炉压监控上,采用了多种安全保障措施和安

全装置,电气上做到了全程自动控制和数据

交换,温度自控、等径自控和安全报警等。

国内最早生产拉单晶炉的专业厂家是西

安理工大学工厂,该厂技术力量雄厚,机加工能

力很强,从事拉单晶炉主要有TDR-70、TDR-

80、TDR-90、TDR-120等多种炉型。其中,

TDR-120炉是2007年面世的,设计装料量120kg

,实现了全过程自动控制,设计上有较大的改

进。

1961年,在中国科学院半

导体物理所林兰英院士的亲

自指导下,北京机械学院工

厂(西安理工大学工厂的前

身)的技术人员与半导体物

理所的技术人员共同研制出

了我国第一台人工晶体生长

设备,TDK-36型单晶炉,

并且成功拉制出了我国第一

根无位错的硅单晶,单晶质

量接近当时的国际先进水

20世界80年代后期,我国半导体材料工业迅速

发展,国内半导体材料制造厂家大量引进美国

KAYEX

CG3000型软轴提拉单晶炉。为满足我国半

导体材料工业不断发展的需要,1988年西安理工大

学工厂承担了国家七五科技攻关项目,研制成功了

TDR-62系列软轴单晶炉

TDR-62系列软轴单晶炉,投料量增至30kg,

拉制单晶径125mm。该炉采用软轴提拉机构,大大

降低了设备高度。等径控制采用IRCON光学高温

计、计算机对径信号进行控制。我国区熔硅单晶

的发展也非常快,特别是75~100mm区熔硅单晶的需

求量在不断上升,为此,1989年年我们研制成功

TDL-FZ35型区熔炉。

TDL-FZ35型区熔炉,用以生产功率器件所需

75~100mm的高质量硅单晶。该设备设置有晶体夹

持机构,以保证稳定生长75~100mm单晶。在该设备

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