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硕士学位论文
高密度污泥回流工艺在半导体工业含氟废水处
理中的应用研究
Applicationofhighdensitysludgere-circulationprocessin
semiconductorfluoride-containingwastewatertreatment
作者姓名：郭石磊
工程领域：环境工程
学号：
指导教师：张捍民教授
完成日期：2019年6月14日
大连理工大学
DalianUniversityofTechnology
摘要
半导体行业是一个国家信息产业发展的基础，是国家经济发展的命脉，是国家在国
际上核心竞争力的一个重要部分。近年来，半导体技术的突飞猛进给人们的生活带来了
极大的便利，互联网、电子产品、军事领域等，半导体产品需求巨大。随着半导体制造
规模的不断扩大，其废水对环境造成的污染日趋广泛和严重，威胁人类的健康和安全。
半导体工业废水具有污染物种类繁多、水质波动幅度大、污染物毒性强、排放量大等特
点。因此，废水处理方法和工艺参数因废水类型和污染物种类不同而不尽相同，需要根
据不同的水质确定最合适的工艺流程和最佳的工艺参数，以便得到最佳的处理效果。本
文对某半导体集成电路企业现有高密度污泥回流工艺处理含氟废水过程中存在的出水
氟值频繁波动超标、化学品消耗量大和污泥产生量大的实际问题进行研究，提出可行的
工艺优化解决方案。
本文对某半导体集成电路企业的含氟废水来源进行调查，分为半导体机台制程含氟
废水、生产支持特种废气洗涤排水和酸性排风洗涤塔排水三种。根据现场三条含氟废水
处理系统废水来源不同的情况，取不同处理系统进水的水样进行实验。通过变化硫酸投
加、污泥投加、调节除氟反应的pH和聚丙烯酰胺(PAM)的投加量，确定含氟废水浓度、
硫酸浓度、pH、污泥浓度与氟去除率之间的关系，选出合适的除氟参数。其中除氟工艺
中最佳的pH范围为6.5~8。其中含氟废水处理系统A套和B套的水源为以上三类废水
混合水源，处理系统对应的硫酸投加浓度为757mg/L，污泥投加浓度128g/L；含氟废
水处理系统C套水源为机台制程含氟废水和生产制程特种废气洗涤排水的混合水源，处
理系统对应的硫酸投加浓度为7
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