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Hightargetutilizationsputtering(HiTUS)technology
Sputteringisgenerallythepreferredoptionforcoatingtechnologies.Bothconventional
magnetronandionbeamsputteringhavelimitationsregardingthedepositionratecontrol.
Magnetronsputteringinparticularisalsoinefficientintermsoftargetutilizationanddoesnotallow
sputteringfromthickferromagnetictargets.Thesputteringtechnologydescribedinthispaper
providescontrolofgrainsize,highuniformtargetutilization(90%)andtheabilitytosputter
ferromagneticmaterialsefficientlywithclosecontrolofdepositionrates[12](seealso
www.plasmaquest.co.uk).Thesystemisbasedonaremotelygeneratedhighintensityplasmaas
showninFig.1andconsistsofasidearmlaunchtubeasaplasmasourcelinkedtothemain
depositionchamber.TheplasmaisgeneratedinthesidearmbyanRFelectricfield(max.2.5kW).
EnergyistransferredtotheplasmabyelectronsviathemechanismofLandaudamping.Theplasma
isthenlaunchedintothechamberviatheinteractionoftheRFfieldwiththelaunchelectromagnet
andthensteeredontothetargetbyasecondelectromagnet.磁控溅射常见问题阳极消失“打火”“靶中毒”内应力靶材成分偏离砂孔溅射镀膜一般有以下几步:放置膜料及装入产品抽真空:包括粗抽和精抽,一般真空度达到6.0-3以上;辉光清洗:通入惰性气体(一般为Ar),真空度1Pa左右,打开辉光清洗电源,清洗偏压及时间由素材表面状况及附着力要求决定。镀膜破真空,取产品:镀膜完成后,(待工艺要求,有时候会充入氩气冷却)对真空室充入大气,待达到大气压,打开真空室门取出产品。溅射镀膜的步骤单击此处可添加副标题磁控溅射在PVD行业是应用及研究最广泛的,在装饰、工模具镀膜、太阳能、幕墙玻璃、半导体、显示屏等许多行业都有广泛的应用。在此对以上某几个方面的应用做简单介绍。装饰镀装饰镀材料(基材)金属:SUS、钢基合金、锌基合金等;玻璃、陶瓷;塑料:ABS、PVC、PC、尼龙等;柔性材料:布,泡沫塑料、钢带等。装饰膜种类金属基材装饰镀膜层:TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、TiOx等玻璃、陶瓷装饰镀膜层:Au、Cr、TiN、ZrN等塑料基材装饰镀膜层:Al、Cu、SUS、ITO、TiO2等柔性材料装饰镀膜层:Al、ITO、TiO2等磁控溅射工业应用磁控溅射工业应用1.3部分金属基材装饰膜颜色金属基材装饰膜的种类及色调很多,下表列举了部分金属基材装饰膜的种类及颜色。膜层种类色调TiNx浅黄、金黄、棕黄、黑色TiC浅灰色、深灰色、黑色TiCxNy赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色TiN+Au金色ZrN金黄色ZrCxNy金色、银色TiO2紫青蓝、绿、黄、橙红色CrNx银白色TixAlNx金黄色、棕色、黑色TiZrAlNx金黄色磁控溅射镀膜及其应用曹达华
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