国内光刻胶封装材料市场发展情况.docx

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国内光刻胶封装材料市场发展情况

前言

芯片制造的工艺节点持续缩小是行业发展的核心驱动力。从28纳米到14纳米，再到7纳米、5纳米，甚至更小节点的出现，推动了光刻胶技术的不断演进。特别是极紫外光（EUV）技术的逐步成熟，使得对光刻胶材料的要求愈加苛刻，不仅要满足更高的分辨率，还需要具备更好的化学性能和稳定性。因此，芯片光刻胶封装材料在技术研发方面的投入显著增加，逐步向更高精度、更高效率的方向迈进。

芯片光刻胶封装材料行业正面临着技术升级、市场需求增长和环保要求提升等多重压力和机遇。在未来几年，随着技术的不断进步和市场需求的不断变化，行业有望迎来更加多样化的发展