《光电子学原理与应用》课件.pptVIP

*************************************第九章：光波导平面波导由三层平行介质构成的最简单波导结构，中间高折射率层作为波导层，上下低折射率层作为包层。平面波导可在一个方向上限制光的传播，是集成光学的基础结构。光在波导层中通过全反射机制传播，形成离散的传输模式。脊型波导在平面波导基础上增加脊结构，实现二维光限制的波导。根据脊的高度和宽度，分为浅脊波导和深脊波导。脊型波导可实现更强的光限制和更小的弯曲半径，是光子集成电路中最常用的波导结构。光子晶体波导利用周期性折射率变化结构中的光子带隙效应，实现光传播路径的精确控制。光子晶体波导可通过缺陷线实现光的高效限制和传输，具有超小模场面积和极低传播损耗特性。这种特殊波导结构为非线性光学和小型化光子器件提供了新平台。光波导工作原理全反射光波导利用全反射原理限制光在高折射率区域传播。当光从高折射率介质射向低折射率介质时，若入射角大于临界角θc=arcsin(n2/n1)，光将完全反射而不发生透射。在波导中，光在核心与包层界面上发生全反射，形成之字形传播路径。尽管光被限制在波导内，其电磁场仍部分延伸到包层区域，形成倏逝场，这是耦合和传感的物理基础。模式传播波导支持的电磁场分布称为模式，每种模式有特定的传播常数和场分布。单模波导只支持基模传播，多模波导支持多种模式同时传播。模式传播常数β满足特征方程，与波导几何尺寸和折射率分布紧密相关。不同模式的传播常数和群速度不同，导致模式间干涉和模式色散。模式场分布决定了波导与外部器件的耦合效率和传播损耗。耦合理论光波导之间的能量交换通过耦合理论描述。当两个波导靠近时，一个波导的倏逝场可激发另一波导中的模式，实现能量传递。耦合强度与波导间距、重叠积分和相位匹配程度相关。方向耦合器、多模干涉耦合器(MMI)等关键器件基于耦合理论设计。脉动耦合理论进一步解释了周期性结构中的耦合现象，是光栅和分布式反馈器件设计的理论基础。光波导器件光开关控制光信号通断或改变传输路径的器件，是光网络的基础单元。马赫-曾德干涉(MZI)型开关利用两臂相位差控制干涉结果，实现光开关功能。方向耦合型开关通过改变耦合长度或耦合强度控制输出端口。基于微机电系统(MEMS)的光开关利用机械运动改变光路，具有低串扰和偏振不敏感特性。光调制器将电信号转换为光信号强度、相位或偏振变化的器件。强度调制器基于MZI结构，通过电光效应改变两臂光程差，调制输出光强。相位调制器直接利用电光效应或热光效应改变波导折射率，实现相位调制。电吸收调制器(EAM)利用量子限制斯塔克效应，具有高速、低驱动电压等优点。波分复用器将多个波长的光信号合并到一根光纤或将混合光信号分离为不同波长的器件。阵列波导光栅(AWG)利用光程差实现不同波长的空间分离，可同时处理数十个波长通道。薄膜滤波器级联结构利用薄膜对不同波长的选择性反射实现波长分离。回音壁微腔滤波器利用微腔谐振实现超紧凑波长滤波。集成光学集成光学是将多个光功能组件集成在单一衬底上的技术，实现光信号的产生、传输、处理和检测。平面光波回路(PLC)技术利用二氧化硅/掺杂二氧化硅材料系统实现低损耗波导器件，如分路器和AWG。光电集成将光子器件和电子器件集成在同一芯片上，实现功能互补和接口简化。硅光子学利用成熟的CMOS工艺，在硅衬底上实现高度集成的光子器件，为下一代高速光通信和光互连提供关键技术支持。第十章：光调制技术振幅调制改变光信号强度，最常用的光调制方式，直接对应数字通信中的开关键控(OOK)相位调制改变光波相位，可实现高阶调制和更高的频谱效率，如BPSK和QPSK频率调制改变光波频率，在某些特殊场景和传感系统中具有优势偏振调制改变光波偏振状态，在量子通信和特殊光纤传感中有重要应用电光调制电光效应材料的折射率在外加电场作用下发生变化的现象，是高速光调制的物理基础。按照折射率与电场的关系，分为线性电光效应(泡克尔斯效应)和二次电光效应(克尔效应)。泡克尔斯效应在晶体如LiNbO?、BaTiO?和KH?PO?中表现明显，折射率变化与电场成正比。克尔效应在各向同性介质中存在，折射率变化与电场平方成正比，响应较弱但在某些材料中具有超快响应特性。电光调制器基于马赫-曾德干涉仪结构的强度调制器是最常用的电光调制器。输入光分为两束，在电场作用下经历不同相移，再合并产生干涉，通过控制相位差调制输出光强。相位调制器直接利用电光效应改变光波相位，结构更简单。铌酸锂(LiNbO?)是目前商用电光调制器的主要材料，具有较大的电光系数和宽透明波段。硅基电光调制器利用载流子注入/耗尽效应或硅-有机杂化材料实现调制