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超光滑表面积分散射测量仪器的关键技术与性能优化研究

一、绪论

1.1研究背景与意义

在现代科技蓬勃发展的浪潮中，超光滑表面扮演着举足轻重的角色，广泛应用于光学、微电子、航空航天等诸多关键领域。在光学领域，随着短波长激光技术以及高功率激光系统的迅猛发展，对光学元件表面质量提出了极为严苛的要求。例如，在极紫外光刻技术中，光学元件的表面粗糙度需控制在亚纳米级，以确保光刻的高精度和高分辨率，从而满足芯片制造不断追求更小特征尺寸的需求。而在高功率激光系统里，超光滑表面能够有效降低激光散射损耗，提高激光传输效率，避免因散射导致的能量损失和光学元件损伤，这对于实现高能量密度的激光输出至关重要。

在微电子领