T/CEMIA 036-2023半导体显示用高碱浓度负胶显影液.pdf

ICS31.030

CCSL90

团体标准

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TCEMIA0362023

半导体显示用高碱浓度负胶显影液

Hihalkaliconcentrationneativehotoresistdeveloerforsemiconductordisla

ggpppy

2023-11-06发布2023-12-30实施

中国电子材料行业协会发布

中国标准出版社出版

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TCEMIA0362023

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

。。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

本文件由中国电子材料行业协会提出并归口。

:、、。

本文件起草单位福建省佑达环保材料有限公司福州大学福建华佳彩有限公司

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本文件主要起草人刘小勇侯琳熙姚慧君田博肖龙强黄晓莉黄子勗房龙翔陈泽生肖小江

、、、。

邱小真叶鑫煌李丛香吴玲玲

Ⅰ

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TCEMIA0362023

半导体显示用高碱浓度负胶显影液

1范围

、、、、

本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语技术要求检验方法检验规则标志及

、、。

包装运输贮存和安全事项

、,

本文件适用于由氢氧化钾表面活性剂和水组成其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显

。

示用高碱浓度负胶显影液此半导体显