1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 法律/法规/法学
  5. 专利法

国开知识产权法形考作业四答案.docx

国开知识产权法形考作业四答案.docx

    1. 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
    2. 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
    3. 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
    查看更多

    国开知识产权法形考作业四答案

    一、单项选择题（每小题3分，共30分）

    根据各国立法及有关国际条约的规定，集成电路布图设计要受法律保护必须具有（C）。

    A.新颖性

    B.实用性

    C.独创性

    D.专用性

    2.我国对集成电路布图设计专有权的保护期限是（B）。

    A.5年

    B.10年

    C.15年

    D.20年

    3.通过第三人窃取权利人的商业秘密并加以公开或使用是对该商业秘密的（B）。

    A.直接侵权

    B.间接侵权

    C.双重侵权

    D.无过失侵权

    4.商业秘密的本质属性是（B）。

    A.信息性

    B.保密性

    C.未公开性

    D.价值性

    5.下列权利中，（D）无保护期限的限制，是一项永久性的财产权

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    毋我 + 关注
    实名认证
    内容提供者

    教师资格证持证人

    该用户很懒，什么也没介绍

    咨询Ta 进入空间
    领域认证该用户于2023年04月11日上传了教师资格证
    输入想法，1秒生成专业PPT

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >