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第57卷第10期：106-113绝缘材料Vol.57,No.10:106-113

2024年10月20日InsulatingMaterialsOct20,2024

DOI:10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2024.10.014中图分类号：TM215；TQ323.7

东丽公司光敏聚酰亚胺中国专利分析

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苑伟康，徐建锋，杨斐，郭彦，黄颖，赵锴，翟磊，范琳

（1.国家知识产权局，北京100081；2.中国科学院化学研究所，北京100190）

摘要：光敏聚酰亚胺（PSPI）广泛应用于电子、微电子及光学显示等领域，国外企业高度重视有关PSPI材料配方及应

用的专利技术保护。本文以日本东丽公司在中国申请的PSPI专利为研究对象，详细分析了专利的申请数量变化、法律

状态、技术主题分布等信息，并结合东丽公司代表性的PSPI产品与应用情况，明确了其发展历程、专利保护策略、专利

技术构成，以此探讨PSPI材料的技术发展趋势与应用方向。

关键词：光敏聚酰亚胺；中国专利；东丽公司；技术主题；发展趋势

PatentanalysisofphotosensitivepolyimideappliedbyTorayinChina

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YUANWeikang,XUJianfeng,YANGFei,GUOYan,

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HUANGYing,ZHAOKai,ZHAILei,FANLin

(1.ChinaNationalIntellectualPropertyAdministration,Beijing100081,China;

2.InstituteofChemistry,ChineseAcademyofSciences,Beijing100190,China)

Abstract:Photosensitivepolyimide(PSPI)iswidelyusedinelectronics,microelectronics,opticaldisplay,andotherfields.

ForeigncompaniesattachgreatimportancetothepatentprotectionofPSPImaterialformulasandapplications.Inthispaper,

thePSPIpatentsappliedbyTorayIndustriesInc.inChinaweretakenintoresearch,andthechangesinthenumberofpatent

applications,legalstatus,technicalsubjectdistribution,andotherkeyinformationwereanalyzedindetail.Through

combining