大面积高精度光刻铬版技术研发与生产总结报告.pdfVIP

大面积高精度磁控溅射匀胶铬版技术总结报告

2002-10-11

一、研制时间

研发——中试：1998/10—2002/09

中试——产量化：2002/10—2004/10

二、研制依据

近年来，由于LCD市场的迅速发展，国内低阻ITO的研制成功，给STN-LCD

在国内的发展创造了前提。国内若干大厂家，纷纷考虑进行STN—LCD生产。

市美精微公司经过近10年的持续发展，其净资产已达3000万，

比较雄厚，多年的研发工程培养了一批设计、安装和工艺方面的骨干技术力量。

同时，公司聘请了一批国内真空、薄膜、机械、电子技术等多行业的技术专家，

形成了较强的研究、开发和生产的技术队伍。尤其是以及液晶学会方面

的专家，已成为美精微不可缺少的技术力量依托。几年来，合作开发了不少科研

项目，导致美精微公司在蒸蒸日上的生产同时，敢于