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未来半导体制造中的新型光刻光源技术创新路径.docx

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    一、未来半导体制造中的新型光刻光源技术创新路径

    1.1光刻光源技术的重要性

    1.2新型光刻光源技术的研究方向

    1.2.1高效光源技术

    1.2.2短波长光源技术

    1.2.3可扩展光源技术

    1.3新型光刻光源技术的创新路径

    1.3.1加强基础研究

    1.3.2产学研合作

    1.3.3政策支持

    二、新型光刻光源技术的关键材料与技术挑战

    2.1关键材料的发展

    2.1.1新型光源材料

    2.1.2光刻掩模材料

    2.1.3反射镜与透镜材料

    2.2技术挑战

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