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光刻光源技术革新在2025年5G基站芯片制造中的应用

一、光刻光源技术革新在2025年5G基站芯片制造中的应用

1.1光刻技术的重要性

1.2光刻光源技术的革新

1.2.1极紫外光（EUV）光源

1.2.2深紫外光（DUV）光源

1.2.3化学气相沉积（CVD）光源

1.3光刻光源技术在5G基站芯片制造中的应用

1.3.1提升芯片制程精度

1.3.2降低芯片制造成本

1.3.3满足多样化需求

1.3.4推动产业链发展

二、EUV光刻技术在5G基站芯片制造中的优势与应用

2.1EUV光刻技术的原理与优势

2.2EUV光刻技术在5G基站芯片制造中的应用

2.3EUV光刻技