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半导体光刻光源技术创新实践：2025年助力芯片制造工艺革新.docx

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    半导体光刻光源技术创新实践：2025年助力芯片制造工艺革新

    一、半导体光刻光源技术创新实践：2025年助力芯片制造工艺革新

    1.1背景分析

    1.2技术创新方向

    1.2.1极紫外（EUV）光刻技术

    1.2.2深紫外（DUV）光刻技术

    1.2.3光学成像技术

    1.3技术创新实践

    1.3.1研发新型光源

    1.3.2提升光刻机性能

    1.3.3优化光刻工艺

    1.4技术创新应用

    1.4.1推动先进制程工艺

    1.4.2满足市场需求

    1.4.3提升我国在全球半导体产业的竞争力

    二、半导体光刻光源技术创新的关键因素

    2.1技术研发

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