高红外发射率陶瓷粉体（MoSi₂、TaSi₂、HfB₂）的制备工艺与性能关联研究.docx

下载文档

5
0
约2.88万字
约 23页
2025-10-20 发布于上海
举报
版权申诉
保障服务

高红外发射率陶瓷粉体（MoSi₂、TaSi₂、HfB₂）的制备工艺与性能关联研究.docx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

高红外发射率陶瓷粉体（MoSi?、TaSi?、HfB?）的制备工艺与性能关联研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，高红外发射率陶瓷粉体凭借其独特的性能，在众多领域展现出了不可替代的重要性，成为材料科学领域的研究热点之一。

从能源领域来看，随着全球能源需求的持续增长和能源危机的日益严峻，提高能源利用效率已成为当务之急。高红外发射率陶瓷粉体能够高效地将热能转化为红外辐射能，这一特性使其在工业加热设备中具有巨大的应用潜力。例如，在工业炉中使用高红外发射率陶瓷粉体涂层，可使炉内热量分布更加均匀，显著提高加热速度，从而有效提升工业炉的加热效率，实现低碳节能的目标。据相关研究表