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人人好公,则天下太平;人人营私,则天下大乱。——刘鹗
设备名称:辉光光谱仪型号规格:GDS850A
一、设备简介
1、原理
样品本身作为阴极置于光源上,光源内抽成真空至10Pa左右,冲入氩气并维持压力
500~2025Pa;·················500~2025V,············
离子体。在负高压的作用下,受到电场加速的高能氩离子轰击样品表面,处于表面的样品原
子获得足以克服晶格束缚的能量,以原子的形式被溅射出样品的表面,进入等离子体。由于
等离子体内粒子碰撞频繁,原子的外层电子吸收一定的能量跃迁至更高的能级,此时原子处
于激发态。激发态的原子并不稳定,当其返回到基态时,会释放一定的能量,即一定波长的
光。不同元素释放出的光的波长(即特征波长)各不相同,不同波长的光经分光系统分光并
检测。
2、组成
辉光光谱仪由Grimm辉光放电光源、分光系统、检测系统和计算机控制系统四大部分
组成,其中光源系统有DC光源和RF光源,其中DC属于直流放电方式,用于检测导体材料;
RF光源属于射频方式,用于检测导体和非导体材料。
3、主要技术参数
溅射率1~5um,样品分析时间为2~10min,检测频率高达2000次/s。
4、应用
辉光光谱的应用主要为两个方面,一是固体样品元素总量的分析,对固态块状样品直
接分析,得到定量分析结果;二是深度分析,对被测材料进行逐层剥离、逐层分析,得到从
表面到基体元素成份的深度分布,测量范围可以从几纳米到几十微米。
二、设备操作
1环境条件
1.1实验室室温控制在25℃±5℃、湿度小于80%。
2试样要求
2.1来样必须平整,尺寸为40mm*40mm~20mm*20mm之间;对于做基体成分的热轧板试样,
表面须经320#碳化硅砂纸打磨平整。
3开机前准备
3.1确认控制面板上的开关均处于关闭位置
穷则独善其身,达则兼善天下。——《孟子》
3.2确认附属设备处于关闭状态
3开机
3.1将仪器前面板上的分析气体阀置于Agron位置
3.2打开仪器前面板上的Cleaning/CHAMBERAGRONVALVE置Bleed位置
3.3打开分析气瓶(高纯氩,纯度99.999%)阀门,让气体冲洗一分钟
3.4将Cleaning/CHAMBERAGRONVALVE置OFF位置
3.5设置氩气减压阀压力至40Psi。
3.6接通GDS电源
3.7打开显示器,打开仪器前面板CPU和计算机主机,等待设备的自动引导,听到十声
响声后,表示DSP卡通讯正常.
3.8进入维护菜单程序中的AmbientMonitor(环境监测),观察分光温度和涡轮分子泵
转速,当温度接近37摄氏度和分子涡轮泵指示小于0.2Krpm时,打开前面板上的
SpecVacuum开关。
3.9当分子蜗轮泵转速降至1Krpm时,打开SPECVAC/TURBOENABLE按钮。
3.10待分子泵稳定在90Krpm,分光室真空度在0.001torr后,可正常分析
3.11
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