获得均匀膜层的方法光学镀膜技术王建敏75课件.pptxVIP

获得均匀膜层的方法光学镀膜技术王建敏75课件.pptx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

获得均匀膜层的方法光学镀膜技术主讲人：王建敏

光学镀膜技术

目视法薄膜厚度的检测方法极值法光电定值法石英晶振法

在光学镀膜中，除了对薄膜厚度的监控，膜层的均匀性也至关重要。比如，相机镜头的镀膜如果不均匀，会影响成像质量，出现光斑、色差等。获得均匀膜层的方法

获得均匀膜层的方法

影响膜层厚度均匀性的因素

1.蒸发源发射特性影响膜层厚度均匀性的因素不同结构的蒸发源，像点源、面源、螺旋丝等，发射分布特性差异很大。理想点源、面源以及电子束蒸发源，它们沉积膜层厚度的计算公式不同。蒸发源结构的影响：

1.蒸发源发射特性影响膜层厚度均匀性的因素同一蒸发源蒸发不同膜料时，蒸发分布特性也不一样，在电子束蒸发时更

该用户很懒，什么也没介绍

咨询Ta 进入空间

用户编号：6101050130000123

更多 >