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《热加工工艺》2015年6月第44卷第l2期

ITO陶瓷靶材的制备方法及研究现状

张明杰，陈敬超，彭平，于杰，吴涛

(昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室，云南昆明

650093)

摘要：介绍了ITO靶材的各种性能及应用，综述了目前常用的几种靶材成形方法和烧结工艺以及他们的研究现

状，并对ITO靶材今后的发展趋势进行了展望。

关键词：IT0靶材；成形方法；烧结工艺

DOh10．14158／j．enki．1001-3814．2015．12．009

中图分类号：TB332文献标识码：A文章编号2015)12．0035．05

PreparationMethodsofITOCeramicTargetandResearchStatus

ZHANGMingjie，CHENJingchao，PENGPing，YUJie，、UTao

0~unmingUniversityofScienceandTechnology，KeyLaboratoryofAdvanceMaterialofRarePreciousandNonferrous

Metals，EducationMinistryofChina，KeyLaboratoryofAdvancedMaterialsofYurmanProvince，Kunming650093，China)

Abstract：ThepropertiesandapplicationsofITOtargetweredescribed．Thecommonformingmethods，sinteringprocess

anditsresearchstatusweresummarized．Menawhile，thefuturedevelopmenttrendofITOatrgetwasprospected

．

Keywords：ITOtarget；formingmethod；sinteringprocess

ITO是指Indium及Tin氧化物的简称．是一种均匀；④电阻率小于1c·m；⑤抗折强度≥120MPa。

铟锡氧化物，通常按照氧化铟和氧化锡的质量比9：1我国铟年产量和储量均占世界第一这就给我

的比例混合。通过冷等静压法、热等静压等方法将其国对ITO靶材的生产提供有利的资源条件，但是由

制成靶材，再通过磁控溅射、电子束蒸发、化学气相于现阶段国内对ITO靶材生产技术水平的限制．我

沉积等方法制成ITO薄膜加以利用。ITO薄膜经过国在生产大尺寸，相对密度高的高性能ITO靶材方

刻蚀后能形成具有导电性的透明电极。所以在现代面，与国外比还存在很大的差距。目前能制备出满足

社会中其被广泛的应用于导电玻璃、液晶显示平面显示器、光伏、功能性玻璃等高端产业中需求的

(LCD)、防护镜等行业中[1．2]。透明电极的好坏主要取高性能ITO靶材的国家和地区很少，由于这其中很

决于所制备的ITO靶材的性能，对ITO靶材的应用多国家对高性能ITO靶材制备技术实行严密封锁

及应用方法决定了高性能的ITO陶瓷靶材所具有的政策，这就使得我国在高端产品中所需求的高性

的技术特征：①纯度：其纯度必须保证在99．99％能ITO靶材只能依赖于进口9【]，这限制了我国对锡

以上，总杂质的含量要不得超过10；②密度：