高速以太网PHY层电磁发射特性建模与低EMI封装结构设计研究.pdfVIP

高速以太网PHY层电磁发射特性建模与低EMI封装结构设计研究1

高速以太网PHY层电磁发射特性建模与低EMI封装结构

设计研究

1.研究背景与意义

1.1高速以太网的发展趋势

随着信息技术的飞速发展，数据传输需求呈指数级增长，高速以太网作为现代网络

通信的核心技术，其传输速率不断提升。从最初的10Mbps发展到如今的100Gbps甚

至更高，预计未来5年，全球高速以太网设备市场规模将以年均复合增长率15%的速

度增长，这表明高速以太网在数据中心、云计算、5G通信等领域的重要性日益凸显。然

而，传输速率的提高也带来了新的挑战，其中电磁发射（EMI）问题尤为突出，它不仅

影响设备自身的性能，还可能干扰周边设备的正常运行，成为制约高速以太网发展的关

键因素之一。

1.2电磁兼容性的重要性

电磁兼容性（EMC）是指设备或系统在其电磁环境中符合要求运行并不对其环境

中的任何设备产生无法忍受的电磁干扰的能力。在高速以太网中，电磁发射特性直接影

响设备的电磁兼容性。据统计，约70%的高速电子设备故障与电磁干扰有关，而PHY

层作为以太网物理层的关键部分，其电磁发射特性对整个系统的电磁兼容性起着决定

性作用。通过建立准确的电磁发射特性模型，可以有效预测和控制电磁干扰，降低设备

的电磁干扰水平，提高设备的可靠性和稳定性。同时，合理的低EMI封装结构设计能

够进一步减少电磁发射，提升设备的电磁兼容性，这对于保障高速以太网设备的正常运

行以及与其他设备的协同工作具有重要意义。

2.高速以太网PHY层电磁发射特性分析

2.1电磁发射的产生机制

高速以太网PHY层电磁发射主要源于其高速信号传输特性。随着传输速率的提升，

信号频率不断增加，高频信号在传输过程中会产生电磁能量的辐射。例如，在100Gbps

传输速率下，信号频率可达25GHz左右，如此高的频率使得电磁能量更容易以电磁波

的形式向外辐射，形成电磁发射。

在PHY层，差分信号传输是常见的信号传输方式。差分信号虽然具有一定的抗干

扰能力，但在实际传输过程中，由于信号完整性问题，如传输线不匹配、阻抗不连续等，

3.高速以太网PHY层电磁发射特性建模方法2

仍会产生共模转换，进而导致电磁发射。据统计，差分信号中的共模转换成分可占信号

总能量的10%-20%，这部分能量以电磁波形式辐射出去，成为电磁发射的重要来源。

此外，PHY层芯片内部的高速电路开关动作也会产生电磁发射。高速电路在开关

瞬间会产生瞬态电流，这些瞬态电流在电路板上流动时，会在周围空间产生变化的磁

场，进而产生电磁发射。例如，一个工作频率为10GHz的高速电路开关，其瞬态电流

可达数十毫安，产生的磁场强度可达数十微特斯拉，足以在一定范围内产生明显的电磁

发射。

2.2电磁发射的测量方法

电磁发射的测量是评估高速以太网PHY层电磁兼容性的重要手段。目前，常用的

测量方法包括近场测量和远场测量。

近场测量主要通过近场探头来检测电磁发射。近场探头可以近距离接触被测设备，

能够精确地测量到设备表面附近的电磁场分布。这种方法的优点是测量精度高，能够定

位电磁发射源的位置。例如，使用高灵敏度的磁场探头，可以检测到距离设备表面1-

2厘米范围内的磁场强度变化，精度可达纳特斯拉级别。通过近场测量，可以发现设备

内部特定电路或元件产生的电磁发射热点，为后续的电磁发射抑制措施提供依据。

远场测量则是在距离被测设备一定距离（通常为设备尺寸的3-5倍）处，使用天

线来接收电磁发射信号。远场测量能够模拟设备在实际使用环境中对周围设备的电磁

干扰情况。根据国际标准，如CISPR16，远场测量需要在电磁屏蔽室内进行，以避免

外部电磁干扰对测量结果的影响。远场测量的结果通常以电磁干扰频谱图的形式呈现，

可以直观地显示设备在不同频率下的电磁发射水平。例如，在对一款高速以太网设备进

行远场测量时，发现其在5GHz-10GHz频段内存在明显的电磁发射峰值，这表明该频

段内的电磁发射可能对其他设备造成干扰，需要采取相应的措施进行抑制。

3.高速以太网