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靶电流对磁控溅射类石墨镀层组织与性能的影响.pdf

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    《热加工工艺》2017年8月第46卷第16期

    靶电流对磁控溅射类石墨镀层组织与性能的影响

    王瑜，王春伟，袁战伟，张晓峰，王艳

    (长安大学材料科学与工程学院，陕西西安710064)

    摘要：利用非平衡磁控溅射技术在铝合金表面制备了类石墨镀层，分析了碳靶电流对镀层组织、硬度、结合强度

    以及摩擦系数的影响。结果表明：碳靶电流在1．2～1．8A内，电流越小

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