沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影响.pdfVIP

《热加工工艺》2018年12月第47卷第24期

7几积气压对多弧离子镀MoN涂层

结构和性能的影

包改磊■张大童\邱诚I,李助军2

(1.华南理工大学国家金属材料近净成形工程技术研究中心，广东广州510640;2.r州铁路职业技术学院机械与

电子学院，广东广州510430)

摘要：为了研究沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影，优化涂层的制备工艺参数，现采用多弧离

子镀技术通过改变沉积过程中N2的气压在硬质合金表面获得不同的MoN涂层。分别采用GIXRD、SEM、维氏显微硬

度计、UMT摩擦磨损实验机和划痕仪等对MoN涂层的物相结构、微观形貌、显微硬度、摩擦系数与膜基结合力等进行

分析。结果表明：随着沉积气压的增大，涂层的相结构从7-Mo2N逐渐转化为6・MoN,其中8相(200)晶面衍射峰逐渐增

强；膜层表面质量逐渐变好，膜基结合强度、平均摩擦系数均先增大后减小，相对于基体表现出了较好的摩擦性能。

关键词：多弧离子镀；MoN涂层；沉积气压；摩擦系数；结合强度

DOI:10.14158/j・cnki.1001-3814.2018.24・030

中图分类号:TG174.444文献标识码：A文章编号：1001-3814(2018)24-0119-04

EffectsofDepositionPressureonStructureanProperties

ofMoNCoatingsbyMulti-arcIonPlating

BAGailei1,ZHANGDatong1,QIUCheng1,LIZhiyun2

(1.NationalEngineeringResearchCenterofNear-Net-ShapeFormingforMetallicMaterials,SouthChinaUniversityof

Technology,Guangzhou510640,China;2.SchoolofMechanicalElectronics,GuangzhouRailwayPolytechnic,Guangzhou

510430,China)

Abstract:Inordertostudytheeffectsofdepositionpressureonthestructureandpropertiesofmulti-arcionplatingMoN

coatingsandoptimizethepreparationprocessparametersofthecoating,themulti-arcionplatingtechnologywssusedto

obtaindifferentMoNcoatingsonthesurfaceofcementedcarbidesubstratesbychangingthepressureofN2inthedeposition

process.GIXRD,SEM,Vickersmicrohardnesstester,UMTfrictionandweartester,scratchtester,etcwereusedto

characterizethephasestructure,micro-morphology,microhardness,frictioncoefficientandfilm-substrateadhesionstrengthof

theMoNcoatings,respectively.Theresultsshowthatthephasestructureof