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真空物理气相沉积技术应用分析
目录
一、文档概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
1.3研究内容与方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
二、真空物理气相沉积技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
2.1技术基本概念．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
2.2主要物理过程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
2.2.1物质气化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
2.2.2蒸气传输．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
2.2.3沉积生长．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
2.3常见沉积方式分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
三、真空物理气相沉积技术关键设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
3.1真空系统构成．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
3.2沉积源类型．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
3.3控制与监测系统．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
四、真空物理气相沉积薄膜特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
4.1薄膜结构表征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45
4.2薄膜成分分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48
4.3薄膜物理性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49
4.3.1薄膜厚度控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．51
4.3.2薄膜均匀性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54
4.3.3薄膜附着力测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．56
4.4薄膜化学性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．58
五、真空物理气相沉积技术应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．62
5.1电子工业应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．64
5.1.1半导体器件制造．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．68
5.1.2显示器技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．70
5.2光学工业应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．73
5.2.1光学镜头镀膜．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．75
5.2.2增透膜制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．77
5.3航空航天领域应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．78
5.3.1航空器表面涂层．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．79
5.3.2航天器热控制膜．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．82
5.4医疗器械领域应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．83
5.5其他应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．83
六、真空物理气相沉积技术挑战与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．88
6.1技术发展面临的挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．89
6.2未来发
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