DB12∕T 1010-2020 设施西瓜立体栽培技术规程.docxVIP

ICS65.020.20B31

DB12

天津市地方标准

DB12/T1010—2020

设施西瓜立体栽培技术规程

Codeofestablishmentwatermelonstereoculturetechnology

2020-12-17发布

2021-01-16实施

天津市市场监督管理委员会发布

I

DB12/T1010—2020

前言

本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草。

本标准由天津市农业农村委员会提出并归口。

本标准起草单位：天津市植物保护研究所、天津农学院。

本标准主要起草人：刘春艳、李树和、霍建飞、姚玉荣、郝永娟、刘晓琳、高苇、王勇、王万立。

DB12/T1010—2020

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设施西瓜立体栽培技术规程

1范围

本标准规定了设施西瓜立体栽培的产地环境、田间管理、病虫防治、采收管理措施。

本标准适用于天津地区日光温室、塑料大棚、连栋温室等设施西瓜立体栽培生产。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。

GB4285农药安全使用标准

GB/T8321（所有部分）农药合理使用准则

GB16715.1-2010瓜菜作物种子第1部分：瓜类

NY5010无公害食品蔬菜产地环境条件

NY5110-2002无公害食品西瓜产地环境条件

NY/T5111无公害食品西瓜生产技术规程

3术语和定义

下列术语和定义适用于本标准。

3.1

立体栽培stereoscopiccultivation

在设施条件下，用竹竿等架材搭架、或钢丝、绳索等牵引瓜蔓上架，果实悬吊于棚架上的一种栽培方式。

3.2

双蔓整枝doublecrosstraining

在4片～5片叶时进行打顶，留一条主蔓和主蔓基部选留一条侧蔓，其余侧蔓全部摘除。

4栽培技术

4.1产前准备

4.1.1施肥整地

施肥原则按照NY/T5111执行。施肥后旋耕土壤2次，深25cm～30cm。定植前2周结合施用基肥起垄作畦。

4.1.2棚室环境消毒

DB12/T1010—2020

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可采用硫磺烟剂进行棚室环境消毒，硫磺药剂用量为每667m2用200g～250g，点燃密闭薰烟一昼夜，经放风无味时再定植。

4.2育苗

4.2.1品种选择

选择设施专用品种，种子应符合GB16715.1-2010中2级以上要求。

4.2.2茬口选择

不同茬口选择见表1。

表1茬口选择表

茬口

育苗（月/旬）

定植（月/旬）

始收期（月/旬）

设施春茬

1月中下旬

3月中下旬

6月上旬

设施秋茬

7月上旬

8上旬

10月上旬

4.2.3育苗土

营养土配制应在播种前10d准备好。选用无病虫的大田土，与腐熟有机肥、草炭等拌匀，过筛后使用，比例宜为3:2:1。也可直接利用商品育苗基质。将营养土装入营养钵内。

4.2.4用种量

接穗每667m2用种100g～150g。砧木每667m2用种200g～300g.

4.2.5种子处理

4.2.5.1晒种

在种子播种前，应经过1d～2d日晒。

4.2.5.2温汤浸种

用55℃温水浸种，边浸边搅拌种子30min左右，冷却后继续浸种20h～24h。

4.2.5.3药剂浸种

用福尔马林100倍液浸种30min，或用50%多菌灵500倍液浸种1h，用清水冲洗干净后浸泡20h。作砧木的种子用温水浸泡12h。

4.2.6催芽

将浸好的种子洗净，用棉布包好，放在25℃~30℃的条件下催芽。种子芽长0.3cm～0.5cm即可播种。砧木在25℃~28℃的温度下催芽，芽长0.5cm时播种。

4.2.7播种

将种子平放于营养钵内，每钵（穴）1粒。接穗用小穴孔育苗盘，砧木用大穴孔或营养钵育苗，播后覆1cm的营养土或细沙保温保湿。

砧木比接穗早播5d左右。

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3

4.2.8嫁接栽培

采用插接或靠接方法进行嫁接，嫁接砧木为葫芦和南瓜。

4.2.9苗期管理

4.2.9.1苗期管理见表2。

表2苗期管理

过程

白天温度(℃)

夜间温度(℃)

播种至出苗

30℃~32℃

16℃~18℃

出苗后至嫁接

25℃~28℃

13℃~14℃

成活后至定植前

28℃~32℃

16℃~18℃

4.2.9.250%以上幼苗出土后，应及时揭去地膜。如果苗床内温度、湿度合适，催过芽的西瓜种子播种后5d～7d即可