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193纳米光阻等离子体固化工艺：原理、优化与应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子技术飞速发展的浪潮中，半导体微电子工艺作为其基石，始终处于科技创新的前沿。而光刻技术，作为微电子工艺中至关重要的一环，宛如精密的雕刻师，在半导体材料上刻画出微小而复杂的电路图案，直接决定了芯片的集成度与性能。在光刻的众多技术路线中，193纳米光阻凭借其能够实现较小特征尺寸和更高分辨率的卓越优势，成为半导体行业的宠儿，被广泛应用于先进制程的芯片制造。

随着芯片集成度的不断攀升以及对器件性能要求的日益严苛，对光刻工艺的精度和质量提出了前所未有的挑战。等离子体固化工艺作为光刻流程中的关键环节，犹如一把精准