半导体清洗设备及炉管类设备研发项目可行性研究报告.docx

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半导体清洗设备及炉管类设备研发项目可行性研究报告

项目总论

项目名称及建设性质

项目名称：半导体清洗设备及炉管类设备研发项目

项目建设性质：该项目属于新建高新技术研发项目，主要从事半导体清洗设备及炉管类设备的研发、设计与中试生产业务，旨在突破半导体制造关键设备领域的技术瓶颈，实现核心设备的国产化替代。

项目占地及用地指标：该项目规划总用地面积65000平方米（折合约97.5亩），建筑物基底占地面积42250平方米；项目规划总建筑面积78000平方米，其中研发中心32000平方米、中试车间28000平方米、配套设施18000平方米；绿化面积4225平方米，场区停车场和道路及场地硬化占地面积