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2025 年大学微电子科学与工程（集成电路制造技术）下学期期末测试卷.docVIP

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  • 2025-12-10 发布于天津
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2025 年大学微电子科学与工程（集成电路制造技术）下学期期末测试卷.doc

    2025年大学微电子科学与工程（集成电路制造技术）下学期期末测试卷

    （考试时间：90分钟满分100分）班级______姓名______

    一、单项选择题（总共10题，每题3分，每题只有一个正确答案，请将正确答案填在括号内）

    1.集成电路制造中，光刻技术的关键作用是（）

    A.定义器件的几何形状B.掺杂杂质C.形成金属互连D.去除多余的半导体材料

    2.以下哪种材料常用于CMOS集成电路的栅极材料（）

    A.铝B.铜C.多晶硅D.氮化硅

    3.在集成电路制造过程中，离子注入的目的是（）

    A.改变半导体的导电类型B.

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