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半导体光刻机维护师岗位招聘考试试卷及答案

一、填空题（每题1分，共10分）

1.光刻机投射掩模图案的核心光学部件是______。

2.维护需佩戴的防静电装备包括防静电服和______。

3.EUV光刻机光源类型是______极紫外光源。

4.维护前需确认______是否关闭、急停按钮是否有效。

5.检测晶圆表面缺陷的辅助设备是______。

6.控制晶圆定位精度的部件是______。

7.定期更换的过滤部件包括空气过滤器和______过滤器。

8.光刻机最小可分辨线宽指标是______。

9.维护专用工具包括防静电镊子和______。

10.EUV光刻机维护需满足______（低于10??Torr）环境。

二、单项选择题（每题2分，共20分）

1.不属于光刻机常用光源的是？

A.汞灯B.ArF激光C.CO?激光D.氙灯

2.静电放电（ESD）的主要危害是？

A.损坏光学部件B.降低光源功率C.污染晶圆D.影响冷却

3.光刻机日常维护内容是？

A.换投影物镜B.校准光源参数C.升级软件D.换晶圆台电机

4.EUV光刻机维护需避免接触的物质是？

A.氮气B.锡（Sn）C.氧气D.氩气

5.掩模台的主要功能是？

A.承载晶圆B.承载掩模并定位C.投射图案D.冷却光源

6.维护前需对工作区域做的操作是？

A.酒精消毒B.静电接地C.通风10分钟D.关所有照明

7.需立即停止维护的情况是？

A.轻微异响B.静电手环接触不良C.过滤芯轻微堵D.软件警告

8.瑞利判据不包含的参数是？

A.波长λB.数值孔径NAC.工艺因子k1D.晶圆直径

9.EUV维护不包括的防护装备是？

A.铅衣B.防毒面具C.防静电鞋D.护目镜

10.校准光源的主要目的是？

A.提高功率稳定性B.降低能耗C.延长寿命D.减少污染

三、多项选择题（每题2分，共20分）

1.光刻机维护安全规范包括？

A.防静电装备B.断电操作C.真空腔打开时禁接触D.查急停按钮

2.核心部件包括？

A.投影物镜B.光源C.晶圆台D.掩模台

3.EUV维护特殊要求包括？

A.超高真空B.锡靶维护C.防污染D.激光校准

4.日常维护内容包括？

A.清洁光学部件B.查过滤系统C.校准定位D.换光源模块

5.静电防护措施包括？

A.防静电手环B.防静电工具C.区域接地D.防静电服

6.影响分辨率的因素包括？

A.光源波长B.数值孔径C.工艺因子D.维护频率

7.需记录的维护信息包括？

A.时间B.更换部件型号C.校准结果D.异常情况

8.辅助系统包括？

A.冷却系统B.气体供应C.真空系统D.电源系统

9.禁止操作包括？

A.手触光学部件B.真空未泄压打开C.乱调扭矩扳手D.未戴防护操作光源

10.清洁光学部件常用工具是？

A.无尘布B.专用清洁液C.过滤压缩空气D.酒精棉

四、判断题（每题2分，共20分）

1.可直接用手触摸投影物镜。（）

2.EUV光源功率越高，分辨率越高。（）

3.维护前需确认电源完全断开。（）

4.晶圆台精度越高，套刻精度越好。（）

5.过滤系统只需每年换一次。（）

6.ESD会导致光学部件氧化。（）

7.EUV维护需在Class1洁净室。（）

8.校准掩模台提高投射精度。（）

9.可用普通螺丝刀操作。（）

10.光源寿命与维护频率无关。（）

五、简答题（每题5分，共20分）

1.简述光刻机维护中静电防护的重要性及措施。

2.日常维护如何检查过滤系统状态？

3.EUV与DUV光刻机维护的主要区别？

4.维护前需完成哪些准备工作？

六、讨论题（每题5分，共10分）

1.如何平衡光刻机维护频率与生产效率？

2.讨论EUV光刻机锡污染的危害及预防措施。

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答案

一、填空题

1.投影物镜

2.防静电手环

3.激光产生等离子体（LPP）

4.电源

5.晶圆缺陷检测系统

6.晶圆台

7.气体（或氮气）

8.分辨率

9.扭矩扳手

10.超高真空

二、单项选择题

1.C2.A3.B4.B5.B6.B7.B8.D9.A10.A

三、多项选择题

1.ABCD2.ABCD3.ABCD4.ABC5.ABCD

6.ABC7.ABCD8.ABCD9.ABCD10.ABC

四、判断题

1.×2.×3.√4.√5.×6.×7.√8.√9.×10.×

五、简答题

1.重要性：避免ESD损坏精密部件、电子元件，防晶圆污染。措施：佩戴防静电装备，用防静电工具，区域接地，控湿度（40%-60%），禁带静电物品入内。

2.①查压差表（超阈值换）；②看过滤芯外观（破损/污染）；③确认流量正常；④按运行时间周期更换。

3.①环境：EUV需超高真空，DUV为洁净室；②光源：EUV锡靶，DUV激光/汞灯；③防护：EUV防锡污染，DUV无特殊要求；④光学：EUV物镜特殊涂层，维护更严。

4.①备齐手册工具；②穿防静电