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氧化锌（ZnO）薄膜晶体管（TFT）：材料制备、刻蚀工艺与性能优化的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子技术领域，薄膜晶体管（ThinFilmTransistor，TFT）作为构建各类电子器件的关键基础元件，发挥着举足轻重的作用。其应用范围极为广泛，涵盖了平板显示、触摸屏、传感器以及集成电路等众多核心领域，对推动现代电子技术的持续进步与创新发展，有着不可或缺的重要价值。

氧化锌（ZnO）基薄膜晶体管凭借一系列突出的优异特性，在众多TFT材料中脱颖而出，备受瞩目。从光学性能来看，氧化锌具备约3.37电子伏特的较宽直接带隙，这使其在紫外光区域展现出卓越的光学响应能力