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全球 10 家掩模检测和量测设备企业竞争格局及发展趋势、技术特点与限制分析.pdf

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    全球市场研究报告

    掩膜版又称光掩模、光罩、掩模版，英文为Photomask、Mask或Reticle，是微电子加工技术常用的

    光刻工艺所使用的图形母版。掩膜版作为图形信息的载体，通过曝光过程，将图形转移到基体材料上，从而

    实现图形的转移。

    在半导体光刻工艺中，需要针对不同的掩膜版使用对应的光源。不同的掩膜版应用差异较大，总的可以分为

    二元掩膜版、相移掩膜版和EUV掩膜版。EUV掩膜版是专为EUV（极紫外）光刻技术设计的新型掩膜版。

    鉴于EUV波长极短且易被多种材料吸收的特性，传统的折射元件如透镜无法使用，而是依据布拉格定律，

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