2025年三星半导体光刻设备技术发展路线报告.docx

2025年三星半导体光刻设备技术发展路线报告范文参考

一、项目概述

1.1项目背景

当前，全球半导体行业正经历着从“规模扩张”向“技术突破”的关键转型，摩尔定律的持续演进对芯片制造工艺提出了前所未有的挑战，而光刻设备作为实现先进制程的核心装备，其技术迭代速度直接决定了半导体产业的竞争格局。三星电子作为全球领先的半导体制造商，在逻辑芯片、存储芯片等领域均占据重要地位，其3nm及以下制程的研发进度对全球半导体产业链具有深远影响。然而，随着制程节点进入亚纳米级别，传统光刻技术面临分辨率极限、光学畸变控制、工艺良率等多重瓶颈，EUV（极紫外光刻）技术虽已实现量产，但High-NAEUV、多