2026年半导体先进制程报告及未来五至十年技术突破报告.docx

2026年半导体先进制程报告及未来五至十年技术突破报告模板范文

一、项目概述

1.1项目背景

1.1.1（1）全球半导体先进制程技术演进趋势

1.1.2（2）中国半导体产业现状与挑战

1.1.3（3）报告研究目标与范围

二、全球半导体先进制程技术发展现状

2.1国际领先企业技术布局

2.2关键设备与材料技术瓶颈

2.3中国半导体先进制程发展现状

三、半导体先进制程技术突破路径

3.1晶体管架构革新

3.1.1（1）传统FinFET晶体管在5nm节点已接近物理极限

3.1.2（2）超越GAA的CFET（互补场效应晶体管）成为后摩尔时代终极方案

3.2新材料与工艺协同突破

3.2.1（1）栅介质层