2026年口腔正畸学考试题库含答案ab卷.docxVIP

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2026年口腔正畸学考试题库

第一部分单选题(50题)

1、关于隐形矫治技术(如Invisalign),下列哪项描述是错误的?

A.适用于所有类型的错颌畸形

B.依赖于计算机辅助设计和制造

C.需要患者良好的配合(每天佩戴足够时间)

D.美观且可自行摘戴

【答案】:A

2、Angle错颌分类法中,上颌第一恒磨牙的近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙的近中颊沟,这是哪一类?

A.I类错颌

B.II类错颌

C.III类错颌

D.正常颌

【答案】:A

3、骨性III类错颌的典型面型特征是?

A.凸面型

B.直面型

C.凹面型

D.长面型

【答案】:C

4、下列哪项不是功能性矫治器的作用原理?

A.通过肌肉力发挥作用

B.通过机械力移动牙齿

C.改变口面肌功能环境

D.引导颌骨生长

【答案】:B

5、关于正畸牙移动的透明样变,以下描述正确的是?

A.是一种可逆的病理改变

B.主要发生在牙槽嵴顶

C.在轻力作用下更容易发生

D.其发生意味着牙周组织对力的理想反应

【答案】:A

6、下列哪项是正畸治疗中常见的牙根吸收的危险因素?

A.治疗前已存在牙根吸收

B.过大的矫治力

C.治疗时间过长

D.以上都是

【答案】:D

7、下列哪项是骨性II类错颌的典型X线头影测量特征?

A.ANB角减小

B.SNA角增大

C.ANB角增大

D.SNB角增大

【答案】:C

8、安氏II类1分类错颌的典型面型特征是?

A.凸面型

B.凹面型

C.直面型

D.以上都不是

【答案】:A

9、在隐形矫治技术中,实现牙齿压低移动的主要难点在于?

A.矫治器无法提供足够的压低力

B.矫治器与牙齿的贴合度在压低时易丧失,导致力量表达效率低

C.无法精确控制压低量

D.容易导致牙根吸收

【答案】:B

10、在正畸拔牙决策中,最常考虑拔除的牙齿是?

A.第一前磨牙

B.第二前磨牙

C.第一磨牙

D.切牙

【答案】:A

11、关于正畸治疗后的稳定性,下列哪项因素影响最小?

A.治疗结束时牙齿的位置

B.牙弓形态的协调性

C.患者治疗前的年龄

D.口周肌肉功能的平衡

【答案】:C

12、关于保持阶段,下列描述错误的是?

A.是正畸治疗的必要阶段

B.目的是防止复发

C.所有患者都需要终身保持

D.常用的保持器有Hawley保持器、压膜保持器等

【答案】:C

13、关于正畸-正颌联合治疗,下列哪项描述是错误的?

A.适用于严重的骨性错颌畸形

B.正畸治疗通常在手术前后都需要进行

C.手术可以解决所有正畸问题

D.需要口腔颌面外科医生与正畸医生协作

【答案】:C

14、对于骨性II类错颌伴有上颌前突的患者,在生长期早期可考虑使用?

A.上颌斜面导板

B.FrankelII型矫治器

C.头帽口外弓

D.舌弓

【答案】:C

15、正畸治疗中,下列哪种情况最可能导致颞下颌关节紊乱病(TMD)?

A.建立稳定的尖窝交错关系

B.过度内收下前牙

C.解除前牙反颌

D.扩弓治疗

【答案】:B

16、关于正畸治疗中牙根吸收的风险因素,下列哪项不正确?

A.治疗前即存在牙根形态异常

B.过大的矫治力

C.治疗时间长短

D.使用轻力矫治

【答案】:D

17、下列哪项是固定矫治器的优点?

A.患者可自行摘戴

B.口腔卫生易于维护

C.能精确控制牙齿移动

D.对发音影响小

【答案】:C

18、下列哪项是安氏I类错颌的主要特征?

A.上颌第一恒磨牙的近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙的近中颊沟

B.上颌第一恒磨牙的近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙与第二前磨牙之间

C.上颌第一恒磨牙的近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙的远中颊沟

D.上颌第一恒磨牙的近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙的中央窝

【答案】:A

19、下列哪项不是早期矫治的主要目标?

A.消除病因

B.引导颌面正常发育

C.建立完美的恒牙列咬合

D.为恒牙萌出创造空间

【答案】:C

20、在制定正畸治疗计划时,下列哪项不是必须考虑的因素?

A.患者的主诉和期望

B.牙周状况

C.家庭经济条件

D.患者的星座

【答案】:D

21、正畸治疗中,牙齿的倾斜移动是指牙齿围绕以下哪一点旋转?

A.阻力中心

B.旋转中心

C.牙冠中心

D.根尖点

【答案】:A

22、安氏错颌分类法是基于什么关系进行分类的?

A.上下颌第一磨牙的咬合关系

B.上下颌尖牙的咬合关系

C.上下颌切牙的覆颌覆盖关系

D.上下颌骨的前后向关系

【答案】:A

23、在Tweed-Merrifield定向力矫治技术中,矫治目标不包括下列哪项?

A.建立Ⅰ类磨牙关系

B.建立正常的覆颌覆盖

C

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