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等离子增强化学气相沉积仿真
等离子增强化学气相沉积（Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD）是一种在低温下进行化学气相沉积（CVD）的技术。通过引入等离子体，PECVD能够显著提高反应速率和沉积质量，使其成为微电子制造中不可或缺的一部分。本节将详细介绍PECVD的原理及其仿真方法，并通过具体的软件开发示例来展示如何进行PECVD仿真。
PECVD的基本原理
PECVD的基本原理是在低压条件下，通过等离子体的高能电子激活气体分子，形成活性自由基和离子，这些活性物种在衬底表面发生化学反应，形成所需的薄
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