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摘要
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金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线
摘要
硅纳米线是一种新型的一维半导体纳米材料，具有独特的光学、电学性质,被广泛应用于热电与传感器件、光电子元器件、太阳能电池、锂离子电池等领域。金属辅助化学刻蚀法是制备硅纳米线的常用方法之一,具有操作简便、设备简单、成本低廉和高效等优点,可大规模商业化应用,因而近年来被广泛研究。
但是当前的金属辅助刻蚀法制备的硅纳米线，形貌不易控制，本文研究了利用PPSQ/PS共混聚合物相分离体系来制作出共聚物纳米图案，通过制得的纳米图案利用干法刻蚀和物理气相沉积来获得金纳米图案，再用金属辅助刻蚀法获得形貌可控的硅纳米线。
关键词：硅纳米线
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