2026年口腔正畸学考试题库100道附答案【达标题】.docxVIP

2026年口腔正畸学考试题库100道

第一部分单选题(100题)

1、对于一名伴有严重上颌横向发育不足（腭盖高拱，后牙反颌）的青少年患者，在快速扩弓（RPE）治疗中，其矫治力的作用机制主要是？

A.牙齿的颊向倾斜移动

B.腭中缝的打开及骨骼增宽，伴随牙齿的移动

C.仅使牙槽骨发生改建

D.压低后牙

【答案】：B

2、下列哪种情况是使用微螺钉种植体支抗的明确适应症？

A.需要强支抗内收前牙

B.需要少量解除前牙拥挤

C.所有需要拔牙矫治的病例

D.仅用于成人患者

【答案】：A

3、关于骨性Ⅲ类错颌的诊断，下列哪项最具特征性？

A.上前牙唇倾

B.ANB角小于0°

C.下颌平面角增大

D.上颌前突

【答案】：B

4、对于成人正畸患者，需要特别关注和评估的是？

A.牙周状况

B.颞下颌关节状况

C.修复体和缺失牙情况

D.以上都是

【答案】：D

5、正畸治疗中，牙齿移动的阻力中心通常位于？

A.牙冠中央

B.牙根尖1/3处

C.牙根中1/3与根尖1/3交界处

D.牙颈部

【答案】：C

6、在正畸治疗中，保持阶段的主要目的是？

A.加速牙齿移动

B.防止复发

C.改善面部美观

D.促进颌骨生长

【答案】：B

7、下列哪项是判断正畸治疗是否需要拔牙的关键因素？

A.牙弓长度不调的程度（拥挤度或间隙）

B.患者的年龄

C.矫治器的类型

D.治疗费用的高低

【答案】：A

8、关于安氏II类1分类错颌的描述，下列哪项是错误的？

A.磨牙关系为远中关系

B.上前牙唇向倾斜

C.常伴有深覆盖

D.下颌后缩是唯一特征

【答案】：D

9、下列哪项是正畸治疗中牙根吸收的危险因素？

A.治疗前牙根形态异常

B.过大的矫治力

C.治疗时间过长

D.以上都是

【答案】：D

10、在隐形矫治技术中，下列哪项移动方式实现难度最大？

A.牙齿倾斜移动

B.牙齿整体移动

C.牙齿压低

D.牙齿伸长

【答案】：C

11、正畸治疗中，使用镍钛弓丝的主要目的是？

A.提供重力和快速移动牙齿

B.提供轻而持续的力并排齐牙齿

C.用于精细调整

D.用于保持阶段

【答案】：B

12、在正畸治疗中，为防止支抗丧失，常采用以下哪种方法？

A.增加矫治力

B.使用口外弓

C.缩短治疗时间

D.使用较细的弓丝

【答案】：B

13、在正畸牙移动的初始阶段（初始倾斜移动），压力侧牙周组织发生的最主要变化是？

A.牙槽骨直接吸收

B.牙周膜纤维压缩，血流减少，出现玻璃样变

C.牙骨质快速增生

D.牙髓组织坏死

【答案】：B

14、正畸治疗中，牙齿移动最适宜的力量属于？

A.重度力

B.轻度力

C.间歇力

D.持续轻力

【答案】：D

15、在Tweed-Merrifield定向力系统中，治疗成功的基石是？

A.精确的支抗预备

B.高效的牙齿排齐

C.快速的间隙关闭

D.完美的弓丝协调

【答案】：A

16、下列哪种情况通常不考虑拔牙矫治？

A.严重拥挤

B.双颌前突

C.轻度拥挤的成人患者

D.骨性II类错颌需要内收前牙

【答案】：C

17、Angle错颌分类法中，第一类错颌是指？

A.中性错颌

B.远中错颌

C.近中错颌

D.以上都不是

【答案】：A

18、正畸治疗中，支抗设计的主要目的是？

A.移动牙齿

B.提供施力基础

C.防止支抗牙移动

D.B和C

【答案】：D

19、下列哪项指标通常用于评估面部垂直向发育是否异常？

A.SNA角

B.SNB角

C.下颌平面角（MP-SN或FMA）

D.ANB角

【答案】：C

20、关于正畸牙移动的力值，一般认为最适宜的力值范围是？

A.10-20g

B.50-100g

C.150-200g

D.300-500g

【答案】：B

21、正畸-正颌联合治疗中，手术时机通常选择在？

A.生长发育高峰期前

B.生长发育高峰期

C.生长发育停止后

D.任何时期均可

【答案】：C

22、在Tweed-Merrifield定向力矫治技术中，矫治步骤的最后阶段通常强调？

A.牙弓整平

B.关闭拔牙间隙

C.支抗预备

D.理想弓丝阶段，进行精细调整和牙位确立

【答案】：D

23、乳牙期（3-5岁）通常不进行常规正畸治疗，主要原因是？

A.患儿不配合

B.乳牙会自然脱落

C.可能影响恒牙胚发育

D.矫治效果不佳

【答案】：C

24、在正畸治疗中，下列哪种情况最需要考虑正颌外科手术联合治疗？

A.轻度的牙列拥挤

B.中度的深覆颌

C.严重的骨性错颌畸形

D.简单的牙齿排列不齐

【答案】：C

25、在制定正畸治疗方案时，头影测量分析的主要