2026年口腔正畸学考试题库100道含答案(黄金题型).docxVIP

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2026年口腔正畸学考试题库100道

第一部分单选题(100题)

1、关于正畸治疗与颞下颌关节紊乱病的关系,目前的主流观点是?

A.正畸治疗是TMD的主要病因

B.正畸治疗可以预测性地预防TMD

C.正畸治疗与TMD的发生没有明确的因果关系

D.正畸治疗一定会导致TMD

【答案】:C

2、对于一名12岁患者,上颌侧切牙完全腭侧错位,间隙严重不足。首先应考虑?

A.直接粘接托槽排齐

B.序列拔牙

C.开展间隙或考虑拔牙

D.观察至18岁后修复治疗

【答案】:C

3、Tweed-Merrifield定向力矫治技术主要强调?

A.仅使用活动矫治器

B.牙齿的整体移动和支抗控制

C.只治疗前牙问题

D.避免使用头帽

【答案】:B

4、关于保持阶段,下列哪项说法是正确的?

A.所有患者都需要终身保持

B.保持时间通常与主动治疗时间相同

C.保持的目的是防止复发,维持治疗效果

D.只有固定矫治需要保持,活动矫治不需要

【答案】:C

5、在隐形矫治技术中,实现牙齿压低移动的主要机制是?

A.通过附件产生直接压入力

B.通过矫治器边缘的伸展

C.通过邻面去釉提供空间

D.通过过矫治设计

【答案】:B

6、乳牙期矫治的年龄范围一般是?

A.1-3岁

B.2-5岁

C.3-6岁

D.4-8岁

【答案】:B

7、关于正畸治疗中的支抗,下列哪项描述是正确的?

A.支抗是抵抗矫治力反作用的部位

B.支抗设计不影响治疗效果

C.所有病例都需要强支抗

D.支抗只能来源于口内

【答案】:A

8、关于正畸治疗中牙根吸收,以下说法错误的是?

A.几乎所有正畸患者都会发生轻微的、无临床意义的根尖吸收

B.持续的重力是导致严重牙根吸收的主要因素

C.上颌切牙是牙根吸收的高风险牙位

D.治疗前通过X线片无法预测牙根吸收的风险

【答案】:D

9、下列哪种是功能性矫治器?

A.方丝弓矫治器

B.直丝弓矫治器

C.肌激动器

D.舌侧矫治器

【答案】:C

10、关于正畸治疗中下颌骨生长改良,下列说法最准确的是?

A.功能性矫治器可以显著增加下颌骨的绝对生长量

B.生长改良主要改变生长方向,对生长量影响有限

C.头帽矫治器能有效刺激下颌骨向前生长

D.生长改良对任何年龄的骨性III类患者都同样有效

【答案】:B

11、正畸治疗中,牙齿移动速度最慢的是?

A.倾斜移动

B.整体移动

C.旋转移动

D.压低移动

【答案】:D

12、关于正畸治疗中临时支抗装置(TADs,如微种植钉)的描述,以下哪项不正确?

A.可以提供绝对支抗

B.植入部位主要在牙槽嵴和腭部

C.其稳定性与骨密度无关

D.可用于辅助牙齿的压低、整体移动等

【答案】:C

13、下列哪种情况通常被认为是正畸治疗的绝对禁忌症?

A.牙周炎活动期

B.轻度牙列拥挤

C.深覆颌

D.开颌

【答案】:A

14、在隐形矫治技术中,下列哪项移动方式实现难度最大?

A.牙齿倾斜移动

B.牙齿整体移动

C.牙齿压低

D.牙齿伸长

【答案】:C

15、对于一名12岁安氏II类1分类错颌(上颌前突,下颌后缩)患者,在生长发育高峰期,最适宜采用哪种矫治器进行生长改良治疗?

A.固定矫治器配合II类牵引

B.功能性矫治器(如Twin-block,Activator)

C.仅使用活动保持器

D.种植体支抗

【答案】:B

16、患者,女,14岁,骨性II类高角病例,ANB6°,下颌平面角(MP-SN)42°,上牙槽座点前移。以下最合理的治疗方案是?

A.不拔牙矫治,配合高位头帽

B.拔除上颌两颗第一前磨牙,配合种植体支抗

C.拔除四颗第一前磨牙

D.功能性矫治器促进下颌生长

【答案】:A

17、下列哪项不是种植体支抗的优点?

A.提供绝对支抗

B.患者舒适度高

C.手术创伤小,风险低

D.可应用于牙列缺损患者

【答案】:C

18、关于正畸治疗中牙周组织的反应,下列哪项描述最准确?

A.适宜的力主要引起牙槽骨的直接吸收

B.压力侧牙周膜血管扩张,成骨细胞活跃

C.张力侧牙周膜受压缩,破骨细胞活跃

D.适宜的力引起压力侧牙槽骨间接吸收(潜掘式吸收)

【答案】:D

19、对于骨性II类错颌伴有上颌前突的患者,在生长期早期可考虑使用?

A.上颌斜面导板

B.FrankelII型矫治器

C.头帽口外弓

D.舌弓

【答案】:C

20、在制定成人正畸治疗方案时,与青少年患者最主要的区别在于需要更多考虑?

A.生长潜力

B.牙周状况

C.合作程度

D.美观要求

【答案】:B

21、正畸治疗中最常见的牙移动类型是?

A.倾斜移动

B.整体移动

C.压低

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