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2025年半导体设备五年先进工艺发展报告.docx

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    2025年半导体设备五年先进工艺发展报告

    一、2025年半导体设备五年先进工艺发展报告

    1.1背景与意义

    1.1.1全球半导体产业的快速发展

    1.1.2我国半导体产业的发展现状

    1.1.3先进工艺对半导体产业的重要性

    1.2先进工艺的分类与发展

    1.2.1半导体设备先进工艺的分类

    1.2.2光刻技术的发展

    1.2.3蚀刻技术的发展

    1.2.4沉积技术的发展

    1.3先进工艺在我国的发展现状

    1.3.1我国光刻技术发展现状

    1.3.2我国蚀刻技术发展现状

    1.3.3我国沉积技术发展现状

    1.4总结

    二、半导体设备先进工艺的关键技术与应用

    2.1光刻技术：推动半导体工艺

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