CN118402979A-一种等渗透压的创面修护免洗面膜及其制备方法-公开.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118402979A

(43)申请公布日2024.07.30

(21)申请号202410484510.4A61K8/20(2006.01)

A61K8/34(2006.01)

(22)申请日2024.04.22

A61Q19/00(2006.01)

(71)申请人中山中研化妆品有限公司A61Q19/08(2006.01)

地址528400广东省中山市南朗街道华南

现代中医药城林湖路1号;增设2处经

营场所具体为:1、中山市南朗街道华

南现代中医药城完美路1号;2、中山市

南朗街道华南现代中医药城健泰街4

号一幢B区

(72)发明人莫美玲林运子刘斯亮杨一帆

(74)专利代理机构上海微策知识产权代理事务

所(普通合伙)31333

专利代理师汤俊明

(51)Int.Cl.

A61K8/73(2006.01)

权利要求书1页说明书10页附图4页

(54)发明名称

一种等渗透压的创面修护免洗面膜及其制

备方法

(57)摘要

本发明涉及A61K8/18领域，具体为一种等渗

透压的创面修护免洗面膜及其制备方法，包括主

剂和辅剂，主剂的制备原料包括A、B、C、D、E、F、G

相，辅剂的制备原料包括H、I、J相；A相包括：水、

螯合剂、调理剂，B相包括：增稠剂、保湿剂，C相包

括：保湿剂、防腐剂，D相：包括水、调理剂、保湿

剂，E相包括：保湿剂、芳香剂，F相包括：水、保湿

剂、调理剂、着色剂，G相包括：水、乳化剂、润肤

剂、抗氧化剂，H相包括：水、保湿剂、调理剂、防腐

剂，I相包括：保湿剂、防腐剂，J相包括：成膜剂，

同时保证产品的涂抹感、均匀性、撕拉完整性和

A功效，满足多种应用需求。

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C

CN118402979A权利要求书1/1页

1.一种等渗透压的创面修护免洗面膜，其特征在于，包括主剂和辅剂，主剂的制备原料

包括A、B、C、D、E、F、G相，辅剂的制备原料包括H、I、J相；A相包括：水、螯合剂、调理剂，B相包

括：增稠剂、保湿剂，C相包括：保湿剂、防腐剂，D相：包括水、调理剂、保湿剂，E相包括：保湿

剂、芳香剂，F相包括：水、保湿剂、调理剂、着色剂，G相包括：水、乳化剂、润肤剂、抗氧化剂，H

相包括：水、保湿剂、调理剂、防腐剂，I相包括：保湿剂、防腐剂，J相包括：成膜剂。

2.根据权利要求1所述的一种等渗透压的创面修护免洗面膜，其特征在于，所述保湿剂

选自甘油、丁二醇、透明质酸类、双丙甘醇、丙二醇、甘油葡糖苷中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的一种等渗透压的创面修护免洗面膜，其特征在于，所述调理剂

选自甘草酸二钾、甜菜碱、烟酰胺、黄檗树皮提取物、生育酚、氢化淀粉水解物、麦芽寡糖葡

糖苷、尿囊素、龙胆提取物、粉防己提取物、精氨酸、泛醇中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的一种等渗透压的创面修护免洗面膜，其特征在于，所述增稠剂

为卡拉胶、黄原胶、卡波姆、瓜尔胶、藻酸钠、葡甘露聚糖、结冷胶、丙烯酸(酯)类/C10‑30烷

醇丙烯酸酯交联聚合物中的一种或几种的组合。

5.根据权利要求4所述的一种等渗透压的创面修护免洗面膜，其特征在于，所述防腐剂

选自1